專利名稱：邊緣檢測裝置的制作方法
技術領域：
本發明有關適用于檢測透明薄膜及玻璃等透明體的邊緣位置、并例如對上述透明體的 位置進行控制的邊緣檢測裝置。
背景技術：
當在以激光為代表的單色光的光程中有物體存在時，在該物體的邊緣位置產生菲湼耳 衍射。因而，研發出一種通過利用線傳感器求上述菲湼耳衍射的光量分布，解析該光量分 布，從而檢測上述物體邊緣位置的邊緣檢測裝置。還有，在本申請中，所謂的'光量'為以比例表示線傳感器的受光面上受光的前述單 色光的強度，和根據人們的視覺而定的原來的定義未必一致。也就是，如圖8所示，若將被檢測對象物3定位成遮擋從投光部2朝著排列有多個像 素的線傳感器1射出的部分單色平行光的光程時，則如圖9所示，上述線傳感器1的輸出， 以上述被檢測對象物3的邊緣位置為界發生較大的變化。尤其是線傳感器1上的光量分布 受邊緣位置附近菲涅耳衍射的影響顯示出一定的變化傾向。因此，若對線傳感器1各像素的輸出作歸一處理，便能檢測出該光量為全部入射光時 的25%的位置并將其作為在線傳感器1的像素排列方向上的被檢測對象物3的邊緣位置。 另外，在如此地解析菲涅耳衍射的光量分布時，即使假定上述被檢測對象物3為透明薄膜 或玻璃等透明體，仍能高精度地檢測出其邊緣位置(例如參照日本專利特開2004—177335 號公報)。這是由于通過透明體內部的光和自由空間一側的衍射光之間的相位的差異而在受光面 上產生干涉，在邊緣部分發生較大的光量失落。這一光量的失落在通過透明體內部的光和 自由空間一側的衍射光之間相位差為180度時為最大。然而，在被檢測對象物3為透明體的情況下，根據被檢測對象物3不存在時(圖10(a) 示出的線傳感器l的光全部射入狀態)、被檢測對象物3覆蓋將近一半光程時(圖IO (b) 示出的邊緣檢測的狀態)、及被檢測對象物3覆蓋上述全部光程時(圖10 (c)示出的線傳
感器l的全遮光狀態)的各線傳感器l的輸出(光量分布)可知非常難區別光全部射入 狀態和全遮光狀態。也就是，在光全部射入狀態和全遮光狀態下，由于被檢測對象物3的邊緣處未產生菲 涅耳衍射，所以就不能從線傳感器1的輸出檢測出其光量成為前述的25%的位置。從圖 11示出的邊緣檢測裝置的檢測特性也可知即使是由于被檢測對象物3的存在為全遮光狀 態，也會將其作為光全部射入狀態而誤檢測。例如，在邊檢測被檢測對象物3的邊緣位置， 邊調整上述被檢測對象物3的位置的情況下，由于不知道是光全部射入狀態和全遮光狀態 中的哪一種狀態，所以產生的問題是不能判定須對被檢測對象物3的位置進行修正的方向等。最近，人們著眼于全遮光狀態與光全部射入狀態相比光量減少這一現象，以解決上述 問題，提出一種以下所述的方法，即求出線傳感器1各像素光量之相加值(總光量)，在 該線傳感器1的總光量小于光全部射入狀態的總光量時，判斷為整個線傳感器1被透明體即被檢測對象物3覆蓋的全遮光狀態(例如參照日本專利特開2007_647335號公報)。在上述方法中，如圖12所示，從自由空間一側(圖中的左側)開始邊緣位置檢測的像 素搜索，在發現小于等于閾值的像素時，若被檢測對象物3在線傳感器1的測量范圍內， 則即使在被檢測對象物3的內部有污垢部分D存在，仍能正常地發現邊緣位置E。但是，當整個線傳感器1都被被檢測對象物3覆蓋時，雖然在被檢測對象物3的內部 無污垢部分時，根據搜索后的總光量可以判斷為整個線傳感器1都被被檢測對象物3覆蓋， 但是在覆蓋整個線傳感器1的透明體即被檢測對象物3的內部有污始部分D時，如圖13 所示，便存在以下的問題，檢測出該污垢部分D，即檢測出小于等于閾值的像素，并將其 作為邊緣位置輸出。發明內容本發明之目的在于提供一種邊緣檢測裝置，當然，該裝置能正確地檢測透明體的邊緣 位置，能可靠地判定線傳感器是光全部射入狀態還是全遮光狀態，此外，在覆蓋整個線傳 感器的透明體內部有污垢部分時，能避免將該污垢部分誤檢測為邊緣位置，例如，適用于 對上述透明體的位置進行控制。為達到上述目的，本發明的邊緣檢測裝置的特點為包括將多個像素按規定的間距排 列的線傳感器；朝該線傳感器照射單色光的光源；根據位于所述單色光的光程中的透明體 的邊緣處的光量分布來檢測所述線傳感器的像素排列方向上的所述透明體的邊緣位置的
邊緣位置解析單元；以及全遮光狀態判定單元，其在用該邊緣位置解析單元檢測出所述透 明體的邊緣位置時，求出所述線傳感器中的與所述透明體的邊緣位置對應的自由空間側的 像素的總受光量，在該總受光量與預先存儲的該線傳感器在光全部射入狀態下的直至與所 述邊緣位置對應的像素為止的總受光量之差超過規定的閾值時，判斷為被所述透明體遮擋 的全遮光狀態。另外，本發明的其它方面的邊緣檢測裝置的特點為包括將多個像素按規定的間距排 列的線傳感器；朝該線傳感器照射單色光的光源；根據位于所述單色光的光程中的透明體 的邊緣處的光量分布來檢測所述線傳感器的像素排列方向上的所述透明體的邊緣位置的 邊緣位置解析單元；以及全遮光狀態判定單元，其在用該邊緣位置解析單元檢測出所述透 明體的邊緣位置時，求出所述線傳感器中的與所述透明體的邊緣位置對應的自由空間側的 像素的總受光量，檢測出構成所述線傳感器的多個像素的各受光量的總和或平均值并將其 作為總受光量，和預先存儲的在光全部射入狀態下的總受光量作比較，在檢測出所述透明 體的邊緣位置時的總受光量低于預先設定的比例(例如將10%的光量變化預計在內所設定 的90%的光量)時，判斷為被所述透明體遮擋的全遮光狀態。根據這些邊緣檢測裝置，在從自由空間一側搜索邊緣位置的階段，與此同時對線傳感 器各像素的光量進行加法運算，使該受光量和光全部射入時的受光量進行比較，所以根據 上述比較結果能容易地判定是在光程中無透明體存在的光全部射入狀態或是線傳感器被 透明體覆蓋的全遮光狀態。尤其是，因為根據線傳感器的輸出能容易地判定光程中有無透明體，所以在將邊緣檢 測裝置設置于透明體的生產、檢査線上對該透明體進行對位時，其工業上的應用優點非常 大。理想的為，利用所述全遮光狀態判定單元，將構成所述線傳感器的多個像素中位于所 述透明體的開始檢測邊緣位置的自由空間側的數個像素的受光電平和該數個像素的光全 部射入狀態的受光電平進行比較，在位于所述透明體的開始檢測邊緣位置的自由空間側的 數個像素的受光電平低于該數個像素的光全部射入狀態的受光電平時，判斷為被所述透明 體遮擋的全遮光狀態。通過這樣，在從自由空間一側開始搜索邊緣位置階段，能容易地判定是否為整個線傳 感器被透明體覆蓋的全遮光狀態。另外，理想的為，利用所述邊緣位置解析單元，從光全部射入狀態的自由空間側的像 素側開始依序搜索所述線傳感器各像素的受光量，檢測出其受光量較光全部射入狀態降低
了規定比例的像素位置，具體為，考慮到被檢測對象物是透明體，例如，檢測出光量為75 %或50%的像素的位置，根據該像素位置和上述受光量的降低比例可以檢測出所述透明體 的邊緣位置(光量為25%的位置)。通過這樣，能間接地求出透明體的邊緣位置。在如此地檢測邊緣位置之際，不會受透過透明體的光的影響，最好從所謂入射光一側 的線傳感器端部開始搜索其受光量，假設在受光量降低的所謂光量分布的下降部分存在邊 緣位置，便執行上述邊緣位置的檢測處理，若是如此地進行處理，則即使在透明體內部有 污垢，因為能僅憑線傳感器的總受光量的衰減判斷污垢，所以能避免將該污垢作為邊緣位 置而誤檢測。再有，在透明體的透明度高的情況下，作為一種理想的形態，所述線傳感器和光源可 以設置成相對所述透明體的表面形成傾斜的光程。這是因為，通過使其傾斜，表面反射增大，透過的光衰減，以及通過將其傾斜從而透 過透明體內部的光和自由空間一側的光之間的相位差變大，由于干涉的作用邊緣部份光量 的下降變大，通過這樣，能更正確地求出透明體的邊緣位置。再又， 一種理想的構成為，利用所述邊緣位置解析單元，根據位于所述單色光的光程 上的透明體邊緣處的菲涅耳衍射的光量分布來檢測所述線傳感器像素排列方向上的所述 透明體的邊緣位置，利用近似曲線函數近似該菲涅耳衍射產生的所述線傳感器各像素的受 光量變化，利用所述近似曲線函數，將在所述線傳感器的像素排列方向上為規定光量的位 置解析為所述透明體的邊緣位置。通過這樣，即使在透明體即透明體的內部有污垢存在，依舊可避免將該污垢作為邊緣 位置而誤檢測。


圖1為本發明實施方式的邊緣檢測裝置主要部分的概要構成圖。圖2為表示利用邊緣檢測裝置檢測透明體即被檢測對象物的邊緣位置時線傳感器的輸 出變化示例用的圖。圖3為表示利用邊緣檢測裝置判定線傳感器被透明體即被檢測對象物覆蓋時線傳感器 的輸出變化示例用的圖。圖4為表示邊緣檢測裝置的邊緣位置檢測特性的曲線圖。 圖5為表示邊緣位置檢測的其它方法用的圖。圖6為表示透明體即被檢測對象物的透明度高時邊緣位置檢測的方法用的圖。 圖7 (a)、圖7 (b)為表示將光程相對透明體即被檢測對象物的表面正交時的受光量 變化和傾斜時的受光量變化進行對比用的圖。 圖8為現有的邊緣檢測裝置的概要構成圖。圖9為表示用于說明邊緣檢測裝置的邊緣檢測原理的線傳感器輸出示例的圖。 圖10 (a)為表示在光程上無透明體即被檢測對象物的狀態下線傳感器輸出變化示例 用的圖、圖10 (b)為表示在用被檢測對象物將線傳感器覆蓋一半的狀態下線傳感器輸出 變化示例用的圖、圖10 (c)為表示在整個線傳感器被被檢測對象物覆蓋的狀態下線傳感 器輸出變化示例用的圖。圖11為表示現有的邊緣檢測裝置的邊緣檢測特性用的圖。圖12為表示現有的邊緣檢測裝置檢測到透明體即被檢測對象物的邊緣位置時線傳感 器的輸出變化示例用的圖。圖13為表示現有邊緣檢測裝置將污垢部分作為被檢測對象物的邊緣位置誤判定時線 傳感器的輸出變化示例用的圖。
具體實施方式
以下參照附圖對本發明實施方式的邊緣檢測裝置進行說明。圖1表示本實施方式的邊緣檢測裝置主要部分的概要構成，如圖1所示，包括將多 個像素按規定的間距排列的線傳感器1;與該線傳感器1面對面設置并朝該線傳感器1照 射單色平行光的光源2;以及微型計算機4，該微型計算機4具有解析線傳感器1的輸出 信號(光量信號)以檢測線傳感器l的像素排列方向上的被檢測對象物3的邊緣位置的邊 緣位置解析單元4a，上述光源2主要包括激光元件2a以及將該激光元件2a發出的激光作 為平行光照射線傳感器1的投光透鏡2b，將上述線傳感器1和光源2之間的上述單色平行 光的光程作為檢測被檢測對象物3的邊緣用的檢測區域。在這種情況下，微型計算機4還包括全遮光狀態判定單元4b，該單元在利用邊緣位置 解析單元4a檢測出透明體即被檢測對象物3的邊緣位置時，求出線傳感器1中的直至與 被檢測對象物3的邊緣位置對應的像素為止的總受光量，判定是否為覆蓋線傳感器1的狀 態。這里，微型計算機4的邊緣位置解析單元4a如前述的專利文獻1所述，按每一像素由 歸一化單元對線傳感器1的輸出信號進行歸一處理，并對表示歸一處理后的各像素的受光 量的輸出信號(光量)進行解析，檢測出光量為25%的位置將其作為線傳感器1的像素排
列方向上的被檢測對象物3的邊緣位置。更具體為，上述邊緣位置解析單元4a檢査歸一處理后的各像素11、 12 ln的輸出信 號(光量)，例如求出該光量為25X前后的兩個像素lk、 lk+l (k二l n—l)，設這些像 素lk、 lk+l各自光量之差別取決于菲涅耳衍射產生的光量分布，則利用雙曲線函數等近 似曲線函數近似該光量的變化(光量分布)，由此，利用該近似曲線函數(光量分布)求 出在像素的排列方向上光量為25%的位置將其作為被檢測對象物3的邊緣位置。另一方面，所述全遮光狀態判定單元4b包括初始值存儲單元，在該邊緣檢測裝置起動 時等，該單元預先根據在被檢測對象物3未介于所述光程中的狀態下所檢測出的光全部射 入狀態時線傳感器1的輸出信號求其總受光量，將其作為初始值進行存儲的單元，上述總 受光量可通過求出構成線傳感器1的多個像素11、 12 ln的各輸出信號(光量)之總和 而求得。該全遮光狀態判定單元4b為在其使用時(檢測邊緣時)在邊緣位置解析單元4a檢測 出被檢測對象物3的邊緣位置時，通過求出線傳感器1中的直至與被檢測對象物3的邊緣 位置對應的像素11、 12 ln為止的輸出信號(光量)之總和而求出總受光量，該總受光 量在比根據如上所述存儲的作為初始值的總受光量得到的直至與上述邊緣位置對應的像 素ll、 12 ln為止的總受光量小時，就將該狀態判定為線傳感器1被被檢測對象物3覆 蓋的全遮光狀態。例如，如圖2所示，在邊緣位置解析單元4a檢測出被檢測對象物3的邊緣位置E的時 刻，在線傳感器1中的直至與被檢測對象物3的邊緣位置E對應的第20個像素為止的各 個像素的光量幾乎均為l.O的情況下，因為其總受光量(圖2中用實線圍成的區域)和光 全部射入時的直至第20個像素為止的總受光量幾乎無差別，所以全遮光狀態判定單元4b 將該部位判定為邊緣位置。另外，在線傳感器1被被檢測對象物3覆蓋的情況下，如圖3所示，在邊緣位置解析 單元4a檢測出第48個像素處好像有點像邊緣位置那樣的部位(例如污塘部分D)的時刻， 因為直至第48個像素為止的總受光量(圖3中用實線圍成的區域)比在光全部射入時直 至第48個像素為止的總受光量小10%左右，所以全遮光狀態判定單元4b判斷該部位D不 是邊緣位置，為整個線傳感器1被被檢測對象物3覆蓋的全遮光狀態，輸出0mra。艮P，除了在全遮光狀態時和光全部射入狀態時能獲得不同的輸出結果外，即使在透明 體即被檢測對象物3的內部有污垢存在，也能避免將該污垢作為邊緣位置而誤檢測。這里，規定其檢測特性為在光全部射入狀態下邊緣位置(邊緣檢測位置)為最大，在
隨著被檢測對象物3進入光程的進入量增加，上述邊緣位置減少時，如圖4所示，在成為 全遮光狀態時，能將其邊緣位置維持在最小。換言之，能制止下述問題的發生，也就是，如現有的裝置那樣在變成全遮光狀態時， 由于不能將其與光全部射入狀態區別出來故而其邊緣位置急劇地變成最大值。其結果，能正確地獲得與被檢測對象物3進入光程的進入量對應的邊緣位置，所以例 如能根據其邊緣位置相應地使被檢測對象物3沿線傳感器1的像素排列方向位移來調整其 邊緣位置。尤其是，即使在無法檢測邊緣位置的情況下，只要使被檢測對象物3向某個方 向位移，對光程中被檢測對象物3的邊緣位置定位，就能容易地判斷能否檢測出其邊緣位 置，所以在被檢測對象物3的位置調整上相當有用。然而，如本實施方式那樣，在被檢測對象物3為透明體的情況下，由于利用來自光源 2的單色光透過被檢測對象物3的光與自由空間一側的單色光的衍射光之間的重合產生的 干涉來檢測邊緣，所以不能完全地遮擋來自光源2的單色光，有時該被檢測對象物3的邊 緣產生的菲涅耳衍射的光量分布隱埋于被檢測對象物3的透過光中，變得難以檢測成為前 述的25%的光量的位置。尤其是在被檢測對象物3的透明度高的情況下，往往難以根據為 25 %光量的位置檢測邊緣位置。因而，在這種情況下，在前述的邊緣位置解析單元4a中例如可以如圖5所示，求出光 量變成75%的位置。具體為，在邊緣位置解析單元4a中，檢查歸一處理后的各像素ll、 12 ln的輸出信 號，例如求出其光量為75%的前后兩個像素lg、 lg+l (g=l n_l)，設這些像素lg、 lg+l的各光量的不同也取決于前述菲涅耳衍射產生的光量分布，則利用雙曲線函數等近 似曲線函數近似該光量的變化(光量分布)，由此，可以利用該近似曲線函數(光量分布) 在像素的排列方向上求出光量變成25%的位置作為被檢測對象物3的邊緣位置。換言之，上述的光量變成75%的位置如圖5所示，從光量變成25%的邊緣位置只偏移 △x，該偏移量取決于單色光的波長入、線傳感器1和被檢測對象物3之間的距離z等。 因此，即使不如上所述地直接求出光量變成25%的位置，也能對如上所述地求出的光量變 成75X的位置實施上述偏移Ax的校正，從而間接地求出被檢測對象物3的邊緣位置。還有，最好在如上所述地檢測邊緣位置之際，不受透過被檢測對象物3的光的影響， 所謂從光入射一側的線傳感器l的端部開始搜索其受光量，假設在受光量降低的所謂光量 分布的下降部分存在邊緣位置，則執行上述邊緣位置的檢測處理。這樣，即使在被檢測對 象物3的內部有污垢，仍能只憑線傳感器1總受光量的衰減判斷出污垢，所以能避免將該
污垢作為邊緣位置而誤檢測。也就是，即使在被檢測對象物3的內部有污垢，也不會將該污垢作為邊緣位置而誤檢 測，能判定該狀態為光全部射入狀態還是全遮光狀態，所以例如即使在邊檢測被檢測對象 物3的邊緣位置邊調整該被檢測對象物3的位置那樣的場合，仍能正確地判定要修正上述 被檢測對象物3的位置的方向。即不受粘附于被檢測對象物3表面的汚垢等影響，能正確 地檢測其邊緣位置。另外，在前述的全遮光狀態判定單元4b中雖然著重于線傳感器1的總受光量來判定全 遮光狀態，但是由于在全遮光狀態下如前述的圖10 (c)所示在線傳感器l的各像素ll、 12 ln的輸出信號中產生偏差，檢查該偏差的程度可以判定是否為全遮光狀態。但是，由于線傳感器1長時間使用性能發生變化而造成在各像素11、 12 ln的輸出信 號上產生偏差，所以最好在定期地對線傳感器l的輸出特性校驗后判定各像素ll、 12 ln 的輸出信號(光量)的偏差。另外，被檢測對象物3的不同規格也會使上述偏差的程度變 化，所以最好考慮到這一點來判定是否為全遮光狀態。再有，在前述的全遮光狀態判定單元4b中，雖然著重于線傳感器1的總受光量來判定 全遮光狀態，但對光射入一側的位于線傳感器1端部的數個像素的受光電平和該數個像素 的光全部射入狀態下的受光電平進行比較，在位于線傳感器1端部一側的數個像素的受光 電平低于該數個像素的光全部射入狀態的受光電平時，可以判斷為由于被檢測對象物3而 成全遮光狀態。換言之，根據對位于光射入一側的線傳感器l的端部的數個像素的輸出信 號是否在1. 0附近例如0. 9 1.1的判定，能知道是否為整個線傳感器1被被檢測對象物3 覆蓋的全遮光狀態。但是，在被檢測對象物3的透明度高的情況下，如前所述，即使用全遮光狀態判定單 元4b檢査線傳感器l的受光量的總和(總受光量)，也可以設想受光量不會產生大于等于 10%的變化。為了避免這樣的問題出現，例如在圖6中示出這一理念，可以使形成于線傳 感器1和光源2之間的光程相對上述被檢測對象物3的表面傾斜地設置。而且，只要光程 相對上述被檢測對象物3的表面傾斜，按照上述傾斜的角度0校正邊緣位置解析單元4a 中檢測出的邊緣位置，則通過這樣，就能正確地檢測出被檢測對象物3的邊緣位置。艮P，即使被檢測對象物3的透明度較高，由于通過使光程相對被檢測對象物3的表面 傾斜來增加其表面的反射，所以透過被檢測對象物3到達線傳感器1的光量減少。其結果， 在將光程相對被檢測對象物3的表面設定成直角時，與將上述光程設定成傾斜時相比，如 圖7 (a)、 (b)中對各線傳感器1的輸出進行對比所示出的那樣，將光程設定成傾斜時其
受光量降低之同時，各像素ll、 12 ln的受光量的偏差變大。因而，若相對被檢測對象物3的表面將光程傾斜地進行設置，則即使在被檢測對象物 3的透明度高的情況下，也能增加其表面反射，可靠地檢測遮擋光程的被檢測對象物3的 存在。還有，本發明并不限于上述實施方式，例如在上述實施方式中，將邊緣位置解析單元 4a作為一種根據位于單色光的光程中的被檢測對象物3邊緣處的菲涅耳衍射的光量分布來 檢測線傳感器1的像素排列方向上的被檢測對象物3邊緣位置的單元進行了說明，但并不 限于此。另外，在上述實施方式中，將邊緣位置解析單元4a作為一種利用雙曲二次函數解析菲 涅耳衍射的光量分布的單元進行了說明，但是，當然也可以用其它近似曲線函數。再有，作為線傳感器1的總受光量的信息，當然可以求出多個像素的各受光量的平均 值，此外，還可對于全遮光狀態的判定條件，考慮到作為邊緣檢測對象的透明體3的透明 度或外部光等外擾因素而進行設定。
權利要求
1. 一種邊緣檢測裝置，其特征在于，包括將多個像素按規定的間距排列的線傳感器；朝該線傳感器照射單色光的光源；根據位于所述單色光的光程中的透明體邊緣處的光量分布來檢測所述線傳感器像素排列方向上的所述透明體的邊緣位置的邊緣位置解析單元；以及全遮光狀態判定單元，其在用該邊緣位置解析單元檢測出所述透明體的邊緣位置時，求出所述線傳感器中的與所述透明體的邊緣位置對應的自由空間側的像素的總受光量，在該總受光量與預先存儲的該線傳感器在光全部射入狀態下的直至與所述邊緣位置對應的像素為止的總受光量之差超過規定的閾值時，判斷為被所述透明體遮擋的全遮光狀態。
2. —種邊緣檢測裝置，其特征在于，包括 將多個像素按規定的間距排列的線傳感器； 朝該線傳感器照射單色光的光源；根據位于所述單色光的光程中的透明體的邊緣處的光量分布來檢測所述線傳感器的像 素排列方向上的所述透明體的邊緣位置的邊緣位置解析單元；以及全遮光狀態判定單元，其在用該邊緣位置解析單元檢測出所述透明體的邊緣位置時， 求出所述線傳感器中與所述透明體的邊緣位置對應的自由空間側的像素的總受光量，檢測 出構成所述線傳感器的多個像素的各受光量的總和或平均值并將其作為總受光量，與預先 存儲的光全部射入狀態下的總受光量作比較，在檢測出所述透明體的邊緣位置時的總受光 量低于預先設定的比例時，判斷為被所述透明體遮擋的全遮光狀態。
3. 如權利要求1或2所述的邊緣檢測裝置，其特征在于，所述全遮光狀態判定單元，將構成所述線傳感器的多個像素中位于所述透明體的開始 檢測邊緣位置側的自由空間側的數個像素的受光電平和該數個像素的光全部射入狀態的 受光電平進行比較，在位于所述透明體的開始檢測邊緣位置側的數個像素的受光電平低于 該數個像素的光全部射入狀態的受光電平時，判斷為被所述透明體遮擋的全遮光狀態。
4. 如權利要求1至3中任一項所述的邊緣檢測裝置，其特征在于， 所述邊緣位置解析單元，從光全部射入狀態的自由空間側的像素側開始依序搜索所述 線傳感器各像素的受光量，檢測出其受光量比全受光狀態降低了規定比例的像素位置，并 根據該像素位置和上述受光量的降低比例檢測出所述透明體的邊緣位置。
5. 如權利要求1至4中任一項所述的邊緣檢測裝置，其特征在于， 所述線傳感器和光源形成相對所述透明體的表面傾斜的光程。
6. 如權利要求1至5中任一項所述的邊緣檢測裝置，其特征在于， 所述邊緣位置解析單元，根據位于所述單色光的光程中的透明體邊緣處的菲涅耳衍射的光量分布來檢測所述線傳感器像素排列方向上的所述透明體的邊緣位置，利用近似曲線 函數近似該菲涅耳衍射產生的所述線傳感器各像素的受光量變化，利用所述近似曲線函 數，將在所述線傳感器的像素排列方向上為規定光量的位置解析為所述透明體的邊緣位 置。
全文摘要
一種邊緣檢測裝置，包括線傳感器(1)；朝線傳感器(1)照射單色光的光源(2)；根據位于單色光的光程中的被檢測對象物(3)邊緣處的光量分布檢測線傳感器(1)的像素排列方向上的被檢測對象物(3)的邊緣位置(E)的邊緣位置解析單元(4a)；以及全遮光狀態判定單元(4b)，其在邊緣位置解析單元(4a)檢測出被檢測對象物(3)的邊緣位置E時，求出線傳感器(1)中直至與被檢測對象物(3)的邊緣位置(E)對應的像素為止的總受光量，在該總受光量小于預先存儲的線傳感器(1)在光全部射入狀態下的直至與邊緣位置(E)對應的像素為止的總受光量時，判斷為由于被檢測對象物(3)的存在而成全遮光狀態。
文檔編號G01B11/00GK101398292SQ200810168570
公開日2009年4月1日 申請日期2008年9月25日 優先權日2007年9月28日
發明者岡山喜彥 申請人:株式會社山武