本發明涉及可用于例如通過光刻技術制造設備的方法和裝置，并且涉及使用光刻技術制造設備的方法。本發明更具體地涉及計量傳感器和具有這種計量傳感器的光刻裝置，并且更具體地還涉及這種計量傳感器的照射布置。

背景技術：

1、光刻裝置是一種將期望圖案施加到襯底上(通常是襯底的目標部分)的機器。光刻裝置可以被用于例如集成電路(ic)的制造中。在這種情況下，圖案化設備(替代地，其被稱為掩模或掩模版)可以被用來生成要在ic的獨立層上形成的電路圖案。該圖案可以被轉移到襯底(例如，硅晶圓)上的目標部分(例如，包括管芯的一部分、一個管芯或多個管芯)上。圖案的轉移通常經由成像到輻射敏感材料層(光刻膠)上而被提供在襯底上。一般來說，單個襯底將包含連續圖案化的相鄰目標部分的網絡。這些目標部分通常被稱為“場”。

2、在復雜設備的制造中，通常會執行許多光刻圖案化步驟，從而在襯底上的連續層中形成功能性特征。因此，光刻裝置的性能的一個關鍵方面是相關于先前層中(由相同的裝置或不同的光刻裝置)制定的特征正確且準確地放置所施加的圖案的能力。為這個目的，襯底被提供有一組或多組對準標記。每個標記都是一個結構，其位置可以在稍后使用位置傳感器(通常是光學位置傳感器)進行測量。光刻裝置包括一個或多個對準傳感器，通過該一個或多個對準傳感器可以準確地測量襯底上的標記的位置。不同類型的標記和不同類型的對準傳感器已知來自不同制造商以及來自相同制造商的不同產品。

3、在其他應用中，計量傳感器被用于測量襯底上的曝光結構(在光刻膠中和/或在蝕刻之后)。一種快速并且非侵入式的專用檢查工具是散射儀，其中輻射束被引導到襯底表面上的目標上，并且散射或反射束的屬性被測量。已知散射儀的示例包括us2006033921a1和us2010201963a1中所述類型的角度分辨散射儀。除了通過重建測量特征形狀之外，還可以使用諸如已公布的專利申請us2006066855a1中所述的裝置測量基于衍射的重疊。使用衍射階暗場成像的基于衍射的重疊計量使得能夠對較小的目標進行重疊測量。暗場成像計量的示例可以在國際專利申請wo2009/078708和wo2009/106279中找到，其全部內容通過引用并入本文中。該技術的進一步發展已在已公布的專利出版物us20110027704a、us20110043791a、us2011102753a1、us20120044470a、us20120123581a、us20130258310a、us20130271740a和wo2013178422a1中進行了描述。這些目標可以小于照射斑點，并且可以被晶圓上的產品結構包圍。使用復合光柵目標，可以在一個圖像中測量多個光柵。所有這些申請的內容也通過引用并入本文中。

4、在一些計量應用中，諸如在一些散射儀或對準傳感器中，計量目標中的缺陷可能導致來自該目標的測量值因波長/偏振而變化。因此，有時通過使用多種不同波長和/或偏振(或更一般地，多種不同照射條件)執行相同測量來影響對這種變化的校正和/或減輕。對于這種計量應用，改進照射的光譜分量的切換和選擇是所期望的。

技術實現思路

1、根據當前公開的一個方面，提供了一種源選擇模塊，包括可調衍射元件，該可調衍射元件包括多個像素。源選擇模塊還包括光色散元件，該光色散元件被配置為接收第一波長的第一光和第二波長的第二光。光色散元件將第一光在空間上分布在多個像素中的第一像素上方，以生成第一光的零階衍射和第一光的非零階衍射。光色散元件還將第二光在空間上分布在多個像素中的第二像素上方，以生成第二光的零階衍射和第二光的非零階衍射。源選擇模塊包括連續可變濾波器，該連續可變濾波器包括第一區域和第二區域。連續可變濾波器被布置在這樣的位置，使得由第一區域接收的第一光的零階和由第二區域接收的第二光的零階被連續可變濾波器透射或反射。第一光的非零階被連續可變濾波器阻擋在第一區域外，第二光的非零階被連續可變濾波器阻擋在第二區域外。

2、可選地，多個像素中的每一者可以包括可控光柵。

3、可選地，可調衍射元件可以包括光柵光閥。

4、可選地，連續可變濾波器可以被布置在光色散元件與可調衍射元件之間的光路上。

5、可選地，連續可變濾波器可以被布置在距可調衍射元件一定距離處或距可調衍射元件的共軛圖像平面一定距離處，使得第一光的零階衍射和非零階衍射與第二光的零階衍射和非零階衍射在空間上分離。

6、可選地，光色散元件可以包括棱鏡。

7、可選地，光色散元件可以包括光色散光柵。

8、可選地，連續可變濾波器可以包括連續變化的帶通層。

9、可選地，連續可變濾波器的平面可以相對于可調衍射元件的平面傾斜。

10、可選地，連續可變濾波器可以關于可調衍射元件平行移動，并且從而可以修改衍射元件的一個或多個像素位置處的局部透射/反射屬性。

11、可選地，用于透射/反射和阻擋輻射的濾波特性在連續可變濾波器的區域上呈線性分布。

12、可選地，根據權利要求1至9中任一項的模塊，其中濾波特性在連續可變濾波器的區域上呈非線性分布。

13、可選地，連續可變濾波器可以在第一區域中具有第一光學濾波特性，并且在第二區域中具有第二光學濾波特性。

14、可選地，第一波長和第二波長二者都可以在400nm至900nm的范圍內。在一些實施方式中，第一波長和第二波長二者都可以在400nm至2000nm的范圍中，或者在400nm至1600nm的范圍中。

15、根據本公開的另一個方面，提供了一種方法。接收第一波長的第一光和第二波長的第二光。光色散元件將第一光在空間上分布在包括多個像素的可調衍射元件的第一像素上，并且將第二光在空間上分布在可調衍射元件的多個像素中的第二像素上。第一像素生成第一光的零階衍射和第一光的非零階衍射。第二像素生成第二光的零階衍射和第二光的非零階衍射。連續可變濾波器在連續可變濾波器的第一區域中接收第一光的零階衍射，并在連續可變濾波器的第二區域中接收第二光的零階。連續可變濾波器還在第一區域外接收第一光的非零階衍射，以及在第二區域外接收第二光的非零階。連續可變濾波器透射或反射第一區域的第一光的零階衍射以及第二區域的第二光的零階衍射。連續可變濾波器將第一光的非零階阻擋在第一區域外，以及將第二光的非零階阻擋在第二區域外。

16、根據本公開的另一個方面，提供了一種非瞬態計算機程序產品，其包括機器可讀指令。指令在由計算機系統執行時可以被配置為使計算機系統控制如本文所描述的源選擇模塊以執行如上所描述的方法。

17、根據本公開的另一個方面，提供了一種處理器和相關聯的存儲介質。存儲介質可以包括上述非瞬態計算機程序，使得所述處理器可操作以控制如本文所描述的源選擇模塊以執行如上所描述的方法。

18、根據本公開的另一個方面，提供了一種計量設備，包括如上所述的處理器和相關聯的存儲介質，以便可操作以控制如本文所描述的源選擇模塊以執行如上所描述的方法。

19、根據本公開的另一個方面，提供了一種光刻裝置，包括如本文所描述的源選擇模塊。

20、根據本公開的另一個方面，提供了一種光刻器件，包括如上所描述的處理器和相關聯的存儲介質，以便可操作以控制如本文所描述的源選擇模塊以執行如上所描述的方法。