本發明涉及燒結爐，特別涉及一種薄膜專用燒結爐。
背景技術：
1、薄膜燒結爐是一種用于薄膜材料燒結處理的設備，常見于電子、光電、半導體、太陽能等領域。燒結是將粉末狀材料通過加熱，使其顆粒結合成一個連續的固體的過程。在薄膜工藝中，燒結的目的是使薄膜材料在基板上形成一個均勻的、致密的、功能性的層；目前的燒結爐功能性較差，前期預備工作并不完善，只能進行簡單的轉移投放，操作繁瑣，基于此，本發明提出一種燒結爐，完善燒結前的預備操作措施，給薄膜燒結作業降低了操作難度。
技術實現思路
1、針對上述技術問題，本發明完善燒結前的預備操作措施，給薄膜燒結作業降低了操作難度。
2、本發明使用方案為：一種薄膜專用燒結爐，包括機架，機架底部設置有燒結爐，燒結爐內部設置有電熱管，且燒結爐上設置有電熱控制器；機架頂部設置有轉移機構，轉移機構包括滑動設置在機架上的升降盤，升降盤上陣列布置有基底機構，用于附著承載物料；在升降盤中心區域設置有預備加工機構，用于預備涂布加工；預備機構包括設置在升降盤上的加工安裝座，加工安裝座開設有四個區域，四個區域中分別設置有檢查機構、兩個涂布機構以及推動機構；在機架的頂部還設置有拆除機構，用于拆除燒結薄膜。
3、進一步地，所述轉移機構包括旋轉安裝在機架頂部的方位盤，以及設置在機架頂部的電機一，電機一輸出軸上設置有齒輪一，齒輪一與方位盤嚙合；方位盤上設置有電機二，電機二輸出軸上設置有皮帶結構，在方位盤上移動設置有導桿二和絲桿二，導桿二和絲桿二的底端與升降盤連接，且絲桿二與電機二輸出軸上皮帶結構構成螺旋副。
4、進一步地，所述基底機構包括旋轉安裝在升降盤上的翻轉齒盤，翻轉齒盤上設置有基底翻轉架，基底翻轉架上伸縮設置有基底層，基底層用于附著承載物料；基底層上連接有推板，推板與基底翻轉架之間連接有彈簧一。
5、進一步地，所述升降盤上設置有翻轉電機，且在升降盤中心區域旋轉安裝有齒圈一，齒圈一與各基底機構上的翻轉齒盤嚙合，翻轉電機驅動任意一個翻轉齒盤，以進行聯動。
6、進一步地，所述預備加工機構包括設置在升降盤上的導桿三和絲桿三，在絲桿三頂部設置有電機三，絲桿三通過電機三驅動，在導桿三和絲桿三上移動設置有位置架，位置架與絲桿三構成螺旋副，且位置架上設置有角度電機，角度電機用于驅動加工安裝座，
7、進一步地，所述加工安裝座上的三個區域中分別設置有控制機構，用于驅動檢查機構和兩個涂布機構；兩個涂布機構中，其中一個用于在基底機構上涂布不粘涂層，另一個用于涂布燒結材料；控制機構包括設置在加工安裝座頂部的控制電機，控制電機輸出軸上設置有控制齒輪，且在加工安裝座頂部旋轉安裝有齒圈二，齒圈二與控制齒輪嚙合，在三個區域中旋轉安裝有控制絲桿，在加工安裝座上且位于控制絲桿頂部旋轉設置有夾持齒輪，夾持齒輪內側設置有電磁夾板，電磁夾板夾持控制絲桿頂部，以帶動控制絲桿同步轉動。
8、進一步地，所述控制機構還包括滑動安裝在加工安裝座上的控制滑座，控制滑座與控制絲桿構成螺旋副，控制滑座上設置有移動皮帶和移動電機，移動電機用于驅動移動皮帶，檢查機構和涂布機構設置在控制滑座上。
9、進一步地，所述檢查機構包括滑動安裝在控制滑座上的檢測電缸，檢測電缸伸縮桿上伸縮設置有接觸檢查桿，且接觸檢查桿上設置有位移傳感器，以輸出反饋接觸檢查桿的伸縮位移，檢測電缸的底部附著在移動皮帶上。
10、進一步地，所述涂布機構包括滑動安裝在控制滑座上的控制滑座上的涂布電缸，涂布電缸底部附著在移動皮帶上，且涂布電缸伸縮桿上設置有涂布頭，在加工安裝座上設置有傳輸箱，傳輸箱與涂布頭連通，以傳輸燒結材料或不粘涂層。
11、進一步地，所述推動機構包括設置在加工安裝座上的推動安裝座，推動安裝座上設置有推動電缸；拆除機構包括設置在機架上的轉移電機和吸附安裝架，吸附安裝架上設置有吸附電缸，吸附電缸伸縮桿上連接有吸附部，吸附安裝架通過轉移電機驅動；在機架上還設置有拆除電缸一，拆除電缸一伸縮桿上設置有拆除電缸二，拆除電缸二伸縮桿上設置有拆除刮刀，用于拆除燒結薄膜。
12、本發明與現有技術相比的有益效果是：（1）在對基底層進行檢查時，通過檢測電缸控制接觸檢查桿接觸在基底層上，通過轉移接觸點位，接觸檢查桿接觸到基底層上不平整區域，產生伸縮位移，通過位移傳感器輸出反饋其伸縮信號，完成整個區域接觸后，以分析基底層的表面平整度，進而便于后續更換維護；（2）在進行燒結物料涂布之前，通過其中一個涂布機構在基底層上涂布不粘涂層，利于后續燒結薄膜的脫離；（3）通過推動機構對推板進行推動，使得基底層滑動，使得基底層延伸至基底翻轉架外側，通過吸附電缸控制吸附部移動，并吸附在薄膜上，拆除電缸一控制拆除電缸二移動，拆除電缸二控制拆除刮刀移動，在薄膜與基底層的貼合處進行刮動操作，即將薄膜脫離，然后通過轉移電機控制吸附安裝架翻轉，實現轉移。
1.一種薄膜專用燒結爐，包括機架（1），機架（1）底部設置有燒結爐（2），燒結爐（2）內部設置有電熱管（4），且燒結爐（2）上設置有電熱控制器（3）；其特征在于：機架（1）頂部設置有轉移機構，轉移機構包括滑動設置在機架（1）上的升降盤（8），升降盤（8）上陣列布置有基底機構，用于附著承載物料；在升降盤（8）中心區域設置有預備加工機構，用于預備涂布加工；預備機構包括設置在升降盤（8）上的加工安裝座（14），加工安裝座（14）開設有四個區域，四個區域中分別設置有檢查機構、兩個涂布機構以及推動機構；在機架（1）的頂部還設置有拆除機構，用于拆除燒結薄膜。
2.根據權利要求1所述的一種薄膜專用燒結爐，其特征在于：所述轉移機構包括旋轉安裝在機架（1）頂部的方位盤（103），以及設置在機架（1）頂部的電機一（101），電機一（101）輸出軸上設置有齒輪一（102），齒輪一（102）與方位盤（103）嚙合；方位盤（103）上設置有電機二（5），電機二（5）輸出軸上設置有皮帶結構，在方位盤（103）上移動設置有導桿二（6）和絲桿二（7），導桿二（6）和絲桿二（7）的底端與升降盤（8）連接，且絲桿二（7）與電機二（5）輸出軸上皮帶結構構成螺旋副。
3.根據權利要求1所述的一種薄膜專用燒結爐，其特征在于：所述基底機構包括旋轉安裝在升降盤（8）上的翻轉齒盤（16），翻轉齒盤（16）上設置有基底翻轉架（18），基底翻轉架（18）上伸縮設置有基底層（19），基底層（19）用于附著承載物料；基底層（19）上連接有推板（20），推板（20）與基底翻轉架（18）之間連接有彈簧一（21）。
4.根據權利要求3所述的一種薄膜專用燒結爐，其特征在于：所述升降盤（8）上設置有翻轉電機（15），且在升降盤（8）中心區域旋轉安裝有齒圈一（17），齒圈一（17）與各基底機構上的翻轉齒盤（16）嚙合，翻轉電機（15）驅動任意一個翻轉齒盤（16），以進行聯動。
5.根據權利要求1所述的一種薄膜專用燒結爐，其特征在于：所述預備加工機構包括設置在升降盤（8）上的導桿三（9）和絲桿三（10），在絲桿三（10）頂部設置有電機三（11），絲桿三（10）通過電機三（11）驅動，在導桿三（9）和絲桿三（10）上移動設置有位置架（12），位置架（12）與絲桿三（10）構成螺旋副，且位置架（12）上設置有角度電機（13），角度電機（13）用于驅動加工安裝座（14）。
6.根據權利要求5所述的一種薄膜專用燒結爐，其特征在于：所述加工安裝座（14）上的三個區域中分別設置有控制機構，用于驅動檢查機構和兩個涂布機構；兩個涂布機構中，其中一個用于在基底機構上涂布不粘涂層，另一個用于涂布燒結材料；控制機構包括設置在加工安裝座（14）頂部的控制電機（24），控制電機（24）輸出軸上設置有控制齒輪（23），且在加工安裝座（14）頂部旋轉安裝有齒圈二（22），齒圈二（22）與控制齒輪（23）嚙合，在三個區域中旋轉安裝有控制絲桿（25），在加工安裝座（14）上且位于控制絲桿（25）頂部旋轉設置有夾持齒輪（26），夾持齒輪（26）內側設置有電磁夾板，電磁夾板夾持控制絲桿（25）頂部，以帶動控制絲桿（25）同步轉動。
7.根據權利要求6所述的一種薄膜專用燒結爐，其特征在于：所述控制機構還包括滑動安裝在加工安裝座（14）上的控制滑座（29），控制滑座（29）與控制絲桿（25）構成螺旋副，控制滑座（29）上設置有移動皮帶（30）和移動電機（31），移動電機（31）用于驅動移動皮帶（30），檢查機構和涂布機構設置在控制滑座（29）上。
8.根據權利要求6所述的一種薄膜專用燒結爐，其特征在于：所述檢查機構包括滑動安裝在控制滑座（29）上的檢測電缸（32），檢測電缸（32）伸縮桿上伸縮設置有接觸檢查桿（33），且接觸檢查桿（33）上設置有位移傳感器，以輸出反饋接觸檢查桿（33）的伸縮位移，檢測電缸（32）的底部附著在移動皮帶（30）上。
9.根據權利要求6所述的一種薄膜專用燒結爐，其特征在于：所述涂布機構包括滑動安裝在控制滑座（29）上的控制滑座（29）上的涂布電缸（35），涂布電缸（35）底部附著在移動皮帶（30）上，且涂布電缸（35）伸縮桿上設置有涂布頭（36），在加工安裝座（14）上設置有傳輸箱（34），傳輸箱（34）與涂布頭（36）連通，以傳輸燒結材料或不粘涂層。
10.根據權利要求1所述的一種薄膜專用燒結爐，其特征在于：所述推動機構包括設置在加工安裝座（14）上的推動安裝座（27），推動安裝座（27）上設置有推動電缸（28）；拆除機構包括設置在機架（1）上的轉移電機（38）和吸附安裝架（39），吸附安裝架（39）上設置有吸附電缸（4001），吸附電缸（4001）伸縮桿上連接有吸附部（40），吸附安裝架（39）通過轉移電機（38）驅動；在機架（1）上還設置有拆除電缸一（37），拆除電缸一（37）伸縮桿上設置有拆除電缸二（41），拆除電缸二（41）伸縮桿上設置有拆除刮刀（42），用于拆除燒結薄膜。