本發明涉及成膜裝置以及成膜方法。

背景技術：

1、已知有對基板蒸鍍以蒸鍍物質來進行成膜的技術。在專利文獻1中公開了一邊使蒸鍍源移動一邊向基板放出蒸鍍物質來進行成膜的技術。有時通過一邊使蒸鍍源移動一邊成膜，能降低因蒸鍍源的結構或個體差異所導致的不均，能提高基板上的膜厚分布的均勻性。

2、在先技術文獻

3、專利文獻

4、專利文獻1：日本特開2004－307880號公報

技術實現思路

1、發明所要解決的課題

2、在專利文獻1的技術中，沒有用于判斷基板的當前成膜狀態的信息，在成膜品質的管理以及反映當前成膜狀態的控制的方面，尚有改進的余地。

3、本發明的目的在于提供能判斷基板的當前成膜狀態的技術。

4、用于解決課題的方案

5、根據本發明，提供一種成膜裝置，其特征在于，

6、上述成膜裝置具備：

7、第一蒸鍍機構，該第一蒸鍍機構向基板放出蒸鍍物質；

8、移動機構，該移動機構在蒸鍍物質相對于上述基板的放出期間使上述第一蒸鍍機構沿著關于軸的圓形軌道移動；以及

9、第一監視機構，該第一監視機構監視蒸鍍物質相對于上述基板的放出狀態。

10、發明的效果

11、根據本發明，可提供能判斷基板的當前成膜狀態的技術。

技術特征：

1.一種成膜裝置，其特征在于，

2.如權利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

3.如權利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

4.如權利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

5.如權利要求4所述的成膜裝置，其特征在于，

6.如權利要求4所述的成膜裝置，其特征在于，

7.如權利要求4所述的成膜裝置，其特征在于，

8.一種成膜方法，其特征在于，

技術總結
本發明提供成膜裝置以及成膜方法。成膜裝置具備：第一蒸鍍機構，該第一蒸鍍機構向基板放出蒸鍍物質；移動機構，該移動機構在蒸鍍物質相對于上述基板的放出期間使上述第一蒸鍍機構沿著關于軸的圓形軌道移動；以及第一監視機構，該第一監視機構監視蒸鍍物質相對于上述基板的放出狀態。

技術研發人員：青沼大介,安川英宏,市原正浩,長岡健
受保護的技術使用者：佳能特機株式會社
技術研發日：
技術公布日：2025/6/26