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本發明屬于太赫茲調制器件，具體涉及一種太赫茲液晶可調分束器及其制備方法。、太赫茲波頻率介于微波與紅外之間（.?-??thz），在高速無線通信、雷達遙感、工業與材料檢測、醫學成像等領域具有廣泛的應用潛力，因而成為科學研究和技術開發中的一個重要領域。太赫茲超表面和液晶圖案化控制技術分別通過亞波...

本公開涉及芯片領域，更具體地講，涉及一種基于圖對比學習的幾何拓撲感知光刻熱點檢測方法。、在超大規模集成電路（vlsi）制造領域，光刻工藝作為晶體管結構成形的關鍵環節，其精度直接決定了芯片的良率與性能。隨著制程節點不斷縮小，設計復雜度與制造工藝之間的差距顯著擴大，制造過程中由光學成像誤差、工...

本發明涉及微納光學與光波導，特別是一種適用于短波紫外波段的光波導結構，具體是一種短波紫外低損耗冰微納光纖波導結構及制備方法。、短波紫外光（通常指波長在?nm?~??nm之間的紫外光）在精密光譜分析、生物醫學成像、光化學催化、高分辨率光刻以及病毒與細菌檢測等領域具有重要的應用價值。然而，短波...

本發明涉及具備黑色圖案的基板的制造方法、具備黑色圖案的基板、發光元件及負型光敏性組合物。、使用負型光敏性組合物制造具備圖案的基板的方法、或者、使用具備圖案的基板制造各種最終產品的方法已進行了各種研究。作為具體例，研究了使用負型光敏性組合物形成顯示裝置中的隔板(bank)的方法。、制造有機e...

本發明總體上涉及折射望遠鏡。、傳統望遠鏡依靠多個透鏡來實現所需的放大倍率和清晰度。然而，溫度變化會導致這些透鏡或容納透鏡的鏡筒膨脹或收縮，從而改變望遠鏡的焦距，進而降低成像質量。非熱敏化設計是指通過優化光學系統設計，最大限度地減少溫度變化對其性能的影響。、通過精心選擇光學玻璃和望遠鏡外殼材...

本發明涉及稀疏孔徑光學成像與偏振光學交叉，尤其是指面向稀疏孔徑偏振光學系統的像差系數反演方法及系統。、光學成像技術的空間分辨率提升始終是天文觀測、對地遙感等領域的核心訴求。受限于衍射極限公式，傳統大孔徑光學系統雖然能提高分辨率，但該技術路徑面臨諸多工程化瓶頸，核心體現為大口徑反射鏡材料力學...

本發明涉及光學動態聚焦，尤其是涉及一種用于動態聚焦動態鏡片的安裝結構。、光學動態聚焦系統的核心功能是通過實時調整聚焦元件（如透鏡、反射鏡）的位置或光學特性，實現光束焦點的快速、精確移動，該系統廣泛應用于激光加工、d打印、顯微成像、光通信等多個。在光學動態聚焦系統中，聚焦元件（如透鏡...

本申請屬于成像，具體涉及一種光闌孔徑切換裝置。、在成像系統領域，如汽車抬頭顯示、攝像頭及攝像機等應用場景中，往往需要通過改變通光孔徑來調節進入系統的光量，以控制景深、曝光或抑制眩光，從而優化成像性能。隨著成像技術對可靠性和適配性的要求不斷提升，現有孔徑切換結構在實際應用中逐漸暴露出諸多不足...

本發明涉及導光板，具體涉及一種超窄邊框折彎導光板及其制作方法。、傳統的導光板，通常為平面，在導光板的四周側面安裝發光光源（例如，grb燈），光線直接透過導光板的四周側面進入導光板，其所需空間較大，而且導光板存在明顯的燈前爆點，且離發光區域至少mm距離才看不到燈眼，因此需要有足夠的遮蔽距離，...

本發明屬于拼接望遠鏡共焦調制，尤其涉及一種大口徑拼接式望遠鏡分區多級共焦方法。、為追求更大的集光面積與探測靈敏度，現代地基與空間望遠鏡的口徑越來越大。而超大口徑的鏡面制備則受限于制備技術，隨著口徑越大，鏡面制備難度和成本顯著增高，而鏡面精度顯著下降。因此，采用多塊子鏡拼接以構成超大口徑反射...

本發明涉及顯微物鏡，具體是一種用于顯微物鏡遠心度調節的內部光闌結構和遠心度調節方法。、顯微物鏡是光學顯微鏡的核心成像部件，其成像質量直接影響整個系統的分辨率、對比度和景深。景深是指鏡頭在焦平面前后能形成清晰像的軸向范圍。在某些應用場景（如自動化檢測、大厚度樣品掃描）中，需要顯微物鏡具有較大...

本申請涉及集成光電子，特別是涉及一種波導結構生成方法及裝置、光波導模式分離器件。、硅基光子技術因其功耗低、成本可控、并與cmos工藝高度兼容，已成為構建高密度光電集成芯片的重要平臺。硅波導材料體系具有較高的折射率對比度，能夠實現緊湊的波導彎曲結構與高集成度。、現有偏振分束旋轉器（psr）主...

本申請涉及光學掃描系統，尤其涉及一種用于掃描的無焦光學系統。、在激光掃描系統中，現有的掃描方向控制結構通常是將控制x方向偏轉的反射鏡和控制y方向偏轉的反射鏡布局為緊密排布方式。這是因為光束口徑較大時，或者轉動角度較大時，為了將完整的光斑落在第二個反射鏡上（y方向）則需要較大尺寸的反射鏡，或...

本發明涉及半導體，具體涉及一種fmm生產中的缺陷檢測方法、設備、fmm生產方法及生產線。、精密金屬掩模版（fmm，fine?metal?mask）是顯示屏生產工藝中的核心物料，其主要作用是在蒸鍍過程中實現掩膜圖案的精準轉移。fmm采用帶狀的金屬基材通過多道工藝加工制成。、fmm的加工過程中...

本發明屬于投影展示系統，具體而言，涉及一種全息投影產品演示裝置。、全息術是一種記錄并再現物體光波全部信息（振幅、波長、相位）的技術。它是通過干涉和衍射原理，重新構建出極其逼真的三維立體場景。不過考慮到成本、技術局限以及實際應用效果，我們日常生活中在舞臺上、展覽中看到的所謂“全息投影”，大多...

本發明涉及光刻膠，特別是涉及一種用于電子束光刻工藝的層狀結構及其光刻工藝。、分辨率、對比度和敏感度是光刻膠的技術參數。隨著集成電路的發展，芯片制造特征尺寸越來越小，對光刻膠的要求也越來越高。光刻膠的技術參數包括分辨率、對比度和敏感度等。為了滿足集成電路發展的需要，光刻膠朝著高分辨率、高對比...

本申請涉及投影顯示，尤其涉及一種鏡片傳動組件、投影顯示裝置及交通工具。、隨著現代技術的不斷進步，投影顯示技術的應用日益廣泛，尤其在車載投影領域表現尤為突出。目前，車載投影顯示鏡片傳動時因路面狀況復雜，需要一定的位移補償，通常采用蝸桿彈片進行補償，不過這種補償方式通常為被動補償，在路面環境復...

本發明屬于超構表面器件，具體涉及一種基于硅與鍺銻碲復合納米結構可調諧的窄帶手性超構表面。、手性現象指的是物體缺乏鏡像對稱性，它的鏡像物體不能夠通過旋轉或者平移與之重合。在自然界中，手性物質十分普遍。當左旋圓偏振光與右旋圓偏振光入射到手性物質上時，其透射、反射或吸收呈現出不同的響應，這種差異...

本發明涉及量子光源，尤其涉及一種多波長糾纏光子對產生器及其產生方法。、隨著量子保密通信與量子計算技術的飛速發展，對其核心硬件—量子光源的性能要求日益提高。理想的量子光源需同時滿足單光子性、不可分辨性及糾纏特性。目前，實現量子光源的技術路徑主要包括弱相干光、原子/類原子輻射躍遷以及非線性光學...

本發明涉及紫外光刻設備，具體為一種低倍率自動聚焦補償紫外光刻鏡頭。、ic載板是半導體封裝制造中連接芯片與pcb母板的重要中介結構，具有電氣導通、信號傳輸、結構支撐與散熱等多重功能。隨著封裝小型化、集成化趨勢的加速發展，ic載板的線路圖形日趨微細化，圖形線寬、線距普遍在μm以下，極大提升了對...