本發明涉及具備黑色圖案的基板的制造方法、具備黑色圖案的基板、發光元件及負型光敏性組合物。

背景技術：

1、使用負型光敏性組合物制造具備圖案的基板的方法、或者、使用具備圖案的基板制造各種最終產品的方法已進行了各種研究。作為具體例，研究了使用負型光敏性組合物形成顯示裝置中的隔板(bank)的方法。

2、制造有機el顯示器、微型led顯示器、量子點顯示器等顯示裝置中的發光元件時，作為具有發光等功能的有機層的形成方法，已知有通過例如噴墨法向形成于基板上的具有凹凸的圖案的凹部滴加墨，然后使該墨干燥和/或固體化”的方法。其中，將“具有凹凸的圖案”稱為隔板(bank)。在向圖案的凹部滴加墨時，隔板作為防止墨彼此混合的屏障而發揮作用。隔板優選具有適度“不沾”墨的性質。這是為了抑制滴加至某凹部的墨“順著”隔板的側面進到相鄰的凹部。

3、從遮光性的角度出發，大多情況下隔板為黑色。

4、隔板優選通過使用了負型光敏性組合物的光刻法來形成。

5、專利文獻1記載了一種負型光敏性樹脂組合物作為能夠優選用于光學元件的隔板的形成的組合物，其含有：具有烯屬雙鍵的堿溶性樹脂或堿溶性單體、光聚合引發劑、1分子中具有3個以上巰基的硫醇化合物及拒墨劑。

6、專利文獻2記載了一種固化性樹脂組合物，其包含：堿溶性樹脂、自由基聚合性單體及光聚合引發劑。在該組合物中，堿溶性樹脂為包含四氫呋喃環的樹脂，光聚合引發劑的最大吸收波長位于230nm~360nm的范圍。根據專利文獻2的記載，使用這樣的組合物獲得的圖案固化膜的形狀呈錐形形狀。然而，專利文獻2中未記載將固化性樹脂組合物用于顯示裝置中的隔板的形成。

7、現有技術文獻

8、專利文獻

9、專利文獻1：國際公開第2014/084279號

10、專利文獻2：日本特開2015-22175號公報

技術實現思路

1、(一)要解決的技術問題

2、若通過對以包含黑色色素的負型光敏性組合物形成的膜照射光來形成隔板的黑色的圖案，則圖案的剖面形狀往往成為倒錐形或成為底切形狀，即，往往會成為(圖案上部的寬度)＞(圖案下部的寬度)。這是因為黑色色素吸收光而光未充分抵達膜的底部。

3、若考慮上述的顯示裝置中的隔板的使用方式(將墨滴入至具有凹凸的圖案的凹部)，則圖案的剖面形狀優選矩形或錐形。

4、本發明是鑒于上述情況而完成的。本發明的目的之一在于在利用光刻法形成黑色圖案中改善圖案的剖面形狀。

5、(二)技術方案

6、本技術的發明人等完成了以下所提供的發明，進而解決了上述技術問題。

7、1.

8、一種具備黑色圖案的基板的制造方法，其包括：

9、膜形成工序，在基板上形成由負型光敏性組合物形成的未曝光膜；

10、曝光工序，對所述未曝光膜選擇性地照射至少在波長350~380nm的范圍內及波長390~420nm的范圍內具有光譜的極大值的光從而獲得曝光膜；及

11、顯影工序，對所述曝光膜進行顯影從而形成圖案，其中，

12、所述負型光敏性組合物包含：

13、在波長380~420nm的范圍內具有吸光度的極小值的黑色著色劑、

14、肟酯系光引發劑、

15、酰基膦氧化物系光引發劑、及

16、通過由所述肟酯系光引發劑或所述酰基膦氧化物系光引發劑產生的活性種進行固化的固化性成分。

17、2.

18、根據項1所述的基板的制造方法，其中，所述黑色著色劑的波長365nm的光的吸光度大于該黑色著色劑在波長380~420nm的范圍內的吸光度的極小值。

19、3.

20、根據項1或2所述的基板的制造方法，其中，

21、將所述負型光敏性組合物中的所有不揮發成分中的所述肟酯系光引發劑的含量設為m1、將所述酰基膦氧化物系光引發劑的含量設為m2時，由{m2/(m1＋m2)}×100(%)所表示的酰基膦氧化物系光引發劑的比例為45~95質量%。

22、4.

23、根據項1~3中任一項所述的基板的制造方法，其中，所述黑色著色劑為2種以上的非黑色著色劑的混合物。

24、5.

25、根據項1~4中任一項所述的基板的制造方法，其中，所述黑色著色劑包含藍色顏料、紫色顏料及橙色顏料。

26、6.

27、根據項1~5中任一項所述的基板的制造方法，其中，所述負型光敏性組合物的所有不揮發成分中的所述黑色著色劑的比率為5~15質量%。

28、7.

29、根據項1~6中任一項所述的基板的制造方法，其中，所述固化性成分包含具有烯屬碳碳雙鍵的化合物。

30、8.

31、根據項1~7中任一項所述的基板的制造方法，其中，所述負型光敏性組合物進一步包含堿溶性樹脂。

32、9.

33、根據項1~8中任一項所述的基板的制造方法，其中，所述負型光敏性組合物進一步包含含氟樹脂。

34、10.

35、根據項1~9中任一項所述的基板的制造方法，其中，所述負型光敏性組合物進一步包含鏈轉移劑。

36、11.

37、一種具備黑色圖案的基板，其通過項1~10中任一項所述的基板的制造方法制造。

38、12.

39、根據項11所述的基板，其中，所述黑色圖案部分的光學密度為0.5~5。

40、13.

41、一種發光元件，其具備配置于由項11或12所述的基板中的黑色圖案劃分出的區域的發光層或波長轉換層。

42、14.

43、一種負型光敏性組合物，其包含：

44、在波長380~420nm的范圍內具有吸光度的極小值的黑色著色劑、

45、肟酯系光引發劑、

46、酰基膦氧化物系光引發劑、及

47、通過由所述肟酯系光引發劑或所述酰基膦氧化物系光引發劑產生的活性種進行固化的固化性成分。

48、15.

49、根據項14所述的負型光敏性組合物，其中，所述黑色著色劑在波長355~375nm的范圍內的吸光度大于該黑色著色劑在波長380~420nm的范圍內的吸光度的極小值。

50、16.

51、根據項14或15所述的負型光敏性組合物，其中，

52、將所有不揮發成分中的所述肟酯系光引發劑的含量設為m1、將所述酰基膦氧化物系光引發劑的含量設為m2時，由{m2/(m1＋m2)}×100(%)所表示的酰基膦氧化物系光引發劑的比例為45質量%以上。

53、17.

54、根據項14~16中任一項所述的負型光敏性組合物，其中，所述黑色著色劑為2種以上的非黑色著色劑的混合物。

55、18.

56、根據項14~17中任一項所述的負型光敏性組合物，其中，所述黑色著色劑包含藍色顏料、紫色顏料及橙色顏料。

57、19.

58、根據項14~18中任一項所述的負型光敏性組合物，其中，所有不揮發成分中的所述黑色著色劑的比率為5~15質量%。

59、20.

60、根據項14~19中任一項所述的負型光敏性組合物，其中，所述固化性成分包含具有烯屬碳碳雙鍵的化合物。

61、21.

62、根據項14~20中任一項所述的負型光敏性組合物，其進一步包含堿溶性樹脂。

63、22.

64、根據項14~21中任一項所述的負型光敏性組合物，其進一步包含含氟樹脂。

65、23.

66、根據項14~22中任一項所述的負型光敏性組合物，其進一步包含鏈轉移劑。

67、(三)有益效果

68、根據本發明，在利用光刻法形成黑色圖案中可改善圖案的剖面形狀。