專利名稱：彩色濾波器基片和彩色液晶顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及彩色濾波器基片以及采用該基片的彩色液晶顯示裝置，該類顯示裝置被裝備在電視機(jī)、計(jì)算機(jī)、文字處理機(jī)、辦公自動(dòng)化設(shè)備等上面。


圖15示出了普通彩色液晶顯示裝置的實(shí)例。
這種彩色液晶顯示裝置包括一對(duì)相向夾持液晶層12放置的基片。其中一塊基片為彩色濾波器基片，它包括玻璃基片1以及形成于玻璃基片1上的遮光部件(黑色掩膜)3、彩色濾波器彩色層4和平滑層(覆蓋層)5。在它們上面形成有顯示電極6a和對(duì)版薄膜7a。在另一塊玻璃基片2上形成有顯示電極6b、絕緣薄膜8和對(duì)準(zhǔn)薄膜7b。基片1和2借助包含玻璃珠9和塑料珠11的密封材料10附著在一起，玻璃珠9沿基片四周排放，而塑料珠11的用途是調(diào)節(jié)基片之間所排列元胞的間隙以形成液晶層12，液晶被密封在密封材料10包圍的玻璃基片1和2之間的間隙內(nèi)。顯示電極6a和6b未被遮光部件遮擋的反面部分是液晶透光區(qū)域。
圖16A-16I示出了上述彩色濾波器基片的制造過(guò)程，其中采用金屬薄膜作為黑色掩膜3。
首先如圖16A所示，利用濺射等方法在玻璃基片1上真空淀積一層厚度約為1000埃的金屬(鉻等)薄膜3a，如圖16B所示，在它上面覆蓋一層保護(hù)膜13。隨后如圖16C所示采用光掩膜14曝光保護(hù)膜13，并如圖16D所示顯影形成保護(hù)膜圖案13a。接著如圖16E所示腐蝕形成黑色掩膜3。
隨后如圖16F所示形成彩色層15。通過(guò)涂覆含顏料的有機(jī)墨水或者轉(zhuǎn)移含顏料光敏樹(shù)脂在整個(gè)基片表面形成彩色層15。接著如圖16G所示利用光掩膜曝光彩色層15，并如圖16H所示顯影形成點(diǎn)狀彩色濾波器彩色層15(在圖中為R(紅色像素的彩色層)。同樣也形成了G(綠色)和B(藍(lán)色)像素的彩色層。此外也可以采用印刷方法，該方法將含顏料有機(jī)墨水印制在基片規(guī)定區(qū)域以形成彩色濾波器彩色層。
隨后如圖16I所示，利用旋轉(zhuǎn)涂膜方法或者印刷方法形成覆蓋層5，由此提高了彩色濾波器基片表面的平整程度并確保其與顯示電極有足夠的粘合力。
對(duì)于提高彩色濾波器基片表面平整度，正如日本公開(kāi)特許No.2-275903和3-246503中所揭示的那樣，一般的方法是對(duì)彩色濾波器基片的表面進(jìn)行機(jī)械拋光，或者改善涂覆材料平整能力。而且由于擔(dān)心液晶區(qū)域和元胞厚度的不均勻以及色彩混合，一般的方法還包括按下述方式形成相鄰彩色層的步驟，即在點(diǎn)狀R、G和B像素彩色濾波器彩色層的形成過(guò)程中不使它們互相交疊起來(lái)，或者包括在相鄰彩色層之間形成遮光部件作為兩側(cè)面夾層的步驟。即，如圖18所示，通常在相鄰彩色層4之間形成間隙(凹陷部分)24。在圖18中，a表示元胞厚度差，b表示液晶透光顯示區(qū)域，而c和d分別表示液晶顯示區(qū)域的像素中心部分和像素邊緣部分。
當(dāng)上述彩色濾波器彩色層經(jīng)過(guò)曝光、顯影、烘干等工藝步驟形成后，如圖17A所示，在彩色層15曝光過(guò)程中，紫外線被折射到不需要的部分形成泄光區(qū)域e，由此形成曝光超越區(qū)域f。這樣如圖17B所示，超越曝光部分14a在腐蝕過(guò)程中仍然保留了下來(lái)。隨后如圖17C所示，在烘干形成彩色層時(shí)，包括超越曝光部分14a在內(nèi)的像素邊緣部分發(fā)生熱變形，該彩色層的圓形邊緣部分14b為圓桶形狀截面。當(dāng)在它上面形成平整薄膜時(shí)，圓桶形狀部分經(jīng)過(guò)平整水平度差異進(jìn)一步擴(kuò)大。
而當(dāng)利用印刷方法形成彩色濾波器彩色層時(shí)，由于印制彩色層的表面張力，所以與圖17C所示一樣，彩色層截面為帶圓角邊緣部分的圓桶形狀，這在日本公開(kāi)特許No.4-62504中有所揭示。這樣，如圖18所示，在相鄰的彩色層4之間形成了間隙(凹陷部分)24。而且在這種情況下，邊緣部分不是筆直的，而是方向偏離的。
近年來(lái)，市場(chǎng)上需要的液晶顯示裝置是可演示動(dòng)畫的液晶顯示器、隨多媒體個(gè)人電腦發(fā)展起來(lái)的高清晰度(例如SVGA、XGA等)大顯示屏幕液晶顯示器以及替代桌面型計(jì)算機(jī)所用CRT的大屏幕液晶顯示裝置。為了滿足上述需求，在性能上，對(duì)液晶顯示裝置，特別是采用STN(超扭轉(zhuǎn)向列)型液晶的彩色液晶顯示裝置而言，提出了高對(duì)比度、高亮度、高響應(yīng)速度和低功耗的要求，例如對(duì)比度30∶1以上，響應(yīng)速度200毫秒以下等。為了實(shí)現(xiàn)這些要求，需要改進(jìn)液晶的陡度(以下稱為α值)以獲得高對(duì)比度和高亮度，需要改進(jìn)彩色濾波器基片表面的均勻性以獲得高顯示質(zhì)量，需要減小高亮度引起的背入射光線的電流消耗以獲得低功耗。而且為了改進(jìn)上述這一些對(duì)彩色濾波器基片的表面平整度和剖面形狀(圓桶狀)也需要改進(jìn)。
但是在提高對(duì)比度的過(guò)程中，上述普通彩色濾波器基片存在下列問(wèn)題。即，如圖18所示，在彩色濾波器彩色層4之間有間隙(凹陷部分)24，并且在覆蓋層5的形成過(guò)程中有覆蓋材料流入間隙24，這不僅使彩色濾波器基片表面缺乏平整度，而且形成圓桶形狀區(qū)域。因此在顯示電極6a和6b所夾持的液晶透光顯示區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生元胞厚度差異。由于像素邊緣部分d內(nèi)的元胞厚度比像素中心部分c內(nèi)的元胞厚度增加了a，所以如圖19所示，像素邊緣部分d的V(電壓)-T(透射率)曲線與像素邊緣部分c之間存在差異。因此，當(dāng)部分c處于Voff狀態(tài)時(shí)，部分d接近允許光透過(guò)的To狀態(tài)，從而使對(duì)比度得不到改善。而且對(duì)于STN型液晶而言，通過(guò)改進(jìn)液晶陡度(即降低α值)來(lái)改善對(duì)比度的方法存在如下的問(wèn)題，即液晶α值的降低會(huì)引起一系列的顯示不均勻，從而影響顯示質(zhì)量。即當(dāng)液晶的變化更加陡峭時(shí)，液晶的顯示很容易受到表面狀態(tài)的影響。因此，如果因?yàn)榕c液晶接觸的彩色濾波器基片表面平整度不夠而使元胞厚度產(chǎn)生差異，并且彩色濾波器基片的剖面形狀又較差，則限制了液晶α值的減小。
為了提高亮度，需要提高圖19中V-T曲線的Ton，但是Ton與對(duì)比度也是相關(guān)的(對(duì)比度為Ton/Toff)，由此需要增加作為動(dòng)態(tài)范圍的Ton與Toff之差。不過(guò)由于像素中心部分c內(nèi)元胞厚度與像素邊緣部分d的不同，所以如圖19所示，V-T曲線之間會(huì)產(chǎn)生差異，這減小了合成V-T曲線內(nèi)的動(dòng)態(tài)范圍，從而無(wú)法改善作為亮度的透射率。而且由于低功耗是通過(guò)將亮度提高至所需水平以上并將背入射光的隧道電流降低同一程度而實(shí)現(xiàn)的，所以不提高亮度就無(wú)法降低功耗。
為了提高響應(yīng)速度和顯示質(zhì)量，彩色濾波器基片的表面平整度和剖面形狀同樣需要改進(jìn)。特別是由于為了提高響應(yīng)速度，元胞厚度有所減小(例如從6微米-5或4微米)，所以表面不平整(例如水平度差異)間隙與整個(gè)元胞厚度之比將會(huì)更大。因此需要進(jìn)一步改善彩色濾波器基片的表面平整度和剖面形狀。
而且，當(dāng)圖18所示普通彩色濾波器基片經(jīng)過(guò)機(jī)械拋光來(lái)平整其表面時(shí)，圓桶形狀部分的表面平整度可能會(huì)有一定程度的改善，但是凹陷部分24卻無(wú)法改善。另一方面，當(dāng)表面拋光過(guò)度時(shí)，甚至彩色濾波器彩色層4的厚度也會(huì)變化，從而導(dǎo)致其性能的變化，例如色調(diào)變化等。而且對(duì)于如圖18所示的普通彩色濾波器基片來(lái)說(shuō)，改善覆蓋材料的平整度效果不大，并且難以使液晶透光顯示區(qū)域的表面平整度達(dá)到±0.01微米。
本發(fā)明的彩色濾波器基片包括基片和包含至少兩種顏色的彩色層，其中彩色層的相鄰邊緣部分互相交疊，交疊部分的高度大于或等于彩色層其它部分的高度。
在本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例中，交疊部分的寬度大于或等于2微米。
在本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例中，上述彩色濾波器基片進(jìn)一步包括遮光部件。
在本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例中，遮光部件的厚度小于或等于1微米。
在本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例中，遮光部件的厚度小于或等于0.5微米。
在本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例中，上述彩色濾波器基片進(jìn)一步包括覆蓋彩色層的平整層，其中平整層的整個(gè)表面或者平整層交疊部分以外的表面是平坦的。
在本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例中，通過(guò)對(duì)交疊部分和/或形成于交疊部分上的所述平整層部分進(jìn)行拋光使彩色層的整個(gè)表面和平整層平整。
在本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例中，彩色層包含彩色材料和光敏樹(shù)脂，并且重復(fù)采用光刻方法形成。
本發(fā)明的彩色液晶顯示裝置包括上述彩色濾波器基片、背面基片和液晶層。
在本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例中，液晶層包含STN型液晶，其中液晶分子的扭轉(zhuǎn)角在180°-360°之間。
本發(fā)明的彩色液晶顯示裝置包括上述彩色濾波器基片，它進(jìn)一步包含遮光部件；背面基片；以及液晶層。
在本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例中，液晶層包含STN型液晶，其中液晶分子的扭轉(zhuǎn)角在180°-360°之間。
本發(fā)明的彩色液晶顯示裝置包括上述彩色濾波器基片，它進(jìn)一步包含覆蓋彩色層的平整層；背面基片；以及液晶層。
在本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例中，液晶層包含STN型液晶，其中液晶分支的扭轉(zhuǎn)角在180°-360°之間。
以下論述本發(fā)明的功效。
由于相鄰彩色層的邊緣部分互相交疊并且交疊部分的高度大于凸起部分或者等于平坦部分(其它部分)，所以像素邊緣部分不會(huì)形成凸起部分。
如果交疊部分的寬度大于或等于2微米，則交疊程度足夠并且不會(huì)在像素邊緣部分內(nèi)形成凸起部分。
如果交疊部分的寬度小于遮光部件(黑色掩膜)的寬度，則彩色層不會(huì)溢出從而導(dǎo)致顏色混合。
當(dāng)遮光部件交疊形成于交疊部分上時(shí)，交疊部分的最大高度為彩色層厚度×2加上遮光部件的厚度。交疊部分的高度增加導(dǎo)致交疊部分的凸起更大從而在交疊部分以外的彩色層部分內(nèi)形成更大的凸起部分，這將在液晶顯示裝置形成過(guò)程中引起元胞厚度的變化。不可能單單減少彩色層交疊部分的厚度，但是可以通過(guò)減少遮光部件的厚度降低交疊部分的高度。例如，當(dāng)遮光部件的厚度小于或等于1微米時(shí)，具有普通元胞厚度的液晶顯示裝置可以實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的顯示。而且當(dāng)遮光部件的厚度小于或等于0.5微米時(shí)，甚至具有較小元胞厚度的液晶顯示裝置也可以實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的顯示，從而提供了較高的響應(yīng)速度。
當(dāng)覆蓋材料涂覆在彩色層上并進(jìn)行預(yù)烘干時(shí)覆蓋材料向不平整的低位表面流動(dòng)。此時(shí)，如果彩色層的交疊部分上形成凸起部分，則該部分起著堤岸的作用并使覆蓋材料流向像素中心。由于與普通彩色濾波器基片不同，覆蓋材料不會(huì)流入像素邊緣部分的凸起部分從而影響表面平整度，所以這可以有效地顯示它的平整能力。由于平整層(覆蓋層)的整個(gè)表面或者彩色層交疊部分以外的表面部分是平坦的，所以像素邊緣部分內(nèi)不會(huì)形成凹陷部分。
由于彩色層的高度在交疊部分內(nèi)是最大的，所以像素大部分表面可以通過(guò)拋光而得到平整，但是彩色層的厚度沒(méi)有變化。而且由于交疊層的高度在彩色層交疊部分內(nèi)是最大的，所以像素大部分表面可以通過(guò)拋光該部分而得到平整，但是彩色層的厚度沒(méi)有變化。
當(dāng)彩色層采用光刻工藝形成時(shí)，在現(xiàn)有光學(xué)掩膜形成精度、光敏材料顯影對(duì)比度和曝光裝置精度條件下，加工精度相對(duì)設(shè)計(jì)精度的偏差范圍在±2微米之內(nèi)。而且當(dāng)利用印刷方法形成彩色層時(shí)，由于可以印刷成像素點(diǎn)，所以可以省略曝光和顯影工藝。
由于本發(fā)明的彩色液晶顯示裝置采用了本發(fā)明的彩色濾波器基片，所以通過(guò)使相鄰彩色層的邊緣部分交疊并調(diào)整交疊部分的寬度，彩色濾波器基片的像素邊緣部分表面不會(huì)形成凹陷部分。由于與普通彩色濾波器基片不同，像素邊緣部分凹陷部分內(nèi)的元胞厚度不會(huì)增加，并且即使施加液晶驅(qū)動(dòng)電壓，V-T曲線也不會(huì)產(chǎn)生差異，所以可以避免對(duì)比度下降和顯示質(zhì)量降低。而且通過(guò)控制遮光部件上彩色層的交疊寬度可以調(diào)整交疊部分拖尾區(qū)域的延伸范圍。因此可以控制作為施加液晶驅(qū)動(dòng)電壓時(shí)液晶透光顯示區(qū)域的整個(gè)部分的平整度。而且彩色層上覆蓋層的形成有助于整個(gè)像素部分內(nèi)彩色濾波器基片表面的平整，并減小相鄰彩色層之間像素中心部分的高度差異。而且，由于與普通彩色濾波器基片不同，在對(duì)彩色層和覆蓋層表面進(jìn)行拋光時(shí)，即使是凹陷部分最低的部分也無(wú)需拋光掉，所以可以改善包括像素中心部分在內(nèi)的大部分像素部分的表面平整度，但是不會(huì)引起性能的變化。
由于可以將相鄰彩色層水平度差異調(diào)整為等于或小于0.01微米并使彩色濾波器基片內(nèi)的覆蓋層水平度最好，所以獲得了均勻表面，并且在液晶透光顯示區(qū)域內(nèi)沒(méi)有凹陷部分。因此即使采用光學(xué)性能和顯示質(zhì)量受元胞厚度變化和表面均勻性影響較大的STN液晶，也可以獲得較好的光學(xué)性能和顯示質(zhì)量。
因此本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于(1)提供了具有較好表面平整度的彩色濾波器基片；以及(2)提供了具有極佳光學(xué)性能和顯示質(zhì)量的彩色液晶顯示裝置。
通過(guò)以下借助附圖對(duì)本發(fā)明的描述，可以進(jìn)一步理解本發(fā)明的各種優(yōu)點(diǎn)。
圖1為表示本發(fā)明彩色濾波器基片內(nèi)彩色層交疊寬度與高度之間關(guān)系的曲線圖。
圖2為表示本發(fā)明彩色濾波器基片內(nèi)彩色層交疊寬度與覆蓋層高度之間關(guān)系的曲線圖。
圖3A-3G為本發(fā)明彩色濾波器基片制造工藝的剖面示意圖。
圖4為本發(fā)明液晶顯示裝置的剖面示意圖。
圖5為本發(fā)明彩色濾波器基片彩色層的剖面示意圖。
圖6為本發(fā)明彩色濾波器基片覆蓋層的剖面示意圖。
圖7A和7B為實(shí)施例1和7彩色層的剖面示意圖。
圖8A和8B為實(shí)施例4和比較實(shí)例5的液晶顯示裝置的剖面示意圖。
圖9A和9B為實(shí)施例4和比較實(shí)例5在形成時(shí)的覆蓋層的剖面示意圖。
圖10A和10B為實(shí)施例4和比較實(shí)例5的彩色濾波器基片四周光泄漏狀態(tài)的示意圖。
圖11A和11B為測(cè)量得到的實(shí)施例4和比較實(shí)例5中覆蓋層形成時(shí)密封部分附近剖面形狀(薄膜表面高度)的示意圖。
圖12為實(shí)施例4和比較實(shí)例5液晶顯示裝置中密封部分附近的剖面示意圖。
圖13A和13B為實(shí)施例4和比較實(shí)例5中每個(gè)元胞內(nèi)元胞間隙分布的比較結(jié)果示意圖。
圖14為實(shí)例4和比較實(shí)例5液晶顯示裝置對(duì)比度性能評(píng)價(jià)結(jié)果的示意圖。
圖15為普通液晶顯示裝置的剖面圖。
圖16A-16I為普通彩色濾波器基片制造工藝的剖面圖。
圖17A-17C為利用光刻工藝形成的彩色濾波器基片彩色層表面和剖面的示意圖。
圖18為普通彩色液晶顯示裝置的剖面圖。
圖19為普通彩色液晶顯示裝置V-T特性的曲線圖。
圖20為比較實(shí)例的彩色液晶顯示裝置的剖面圖。
圖21為比較實(shí)例的彩色液晶顯示裝置彩色層的剖面圖。
圖22為比較實(shí)例的彩色液晶顯示裝置覆蓋層的剖面圖。
圖23為比較實(shí)例的彩色液晶顯示裝置的剖面圖。
圖24為比較實(shí)例的彩色液晶顯示裝置彩色層的剖面圖。
圖25為比較實(shí)例的彩色液晶顯示裝置覆蓋層的剖面圖。
以下描述本發(fā)明的實(shí)施例。
本發(fā)明的彩色濾波器基片包括基片和包含當(dāng)交疊相鄰彩色層邊緣部分時(shí)形成于基片上的兩種以上不同顏色的彩色層。由于交疊部分的表面抬高和邊緣部分高于或等于其它部分，所以不會(huì)形成凹陷部分。此外，下面給出了形成彩色層R、G和B的實(shí)例，但是也可以采用兩種或更多不同顏色的其它彩色層。
圖1和下列表1示出了彩色層交疊部分高度隨相鄰彩色層寬度變化的測(cè)量結(jié)果。在這種情況下，相鄰彩色層(RG、GB和GR)的交疊寬度根據(jù)條狀彩色層(R、G和B)的像素寬度而變化，彩色層在像素邊緣部分為圓剖面形狀而在整個(gè)層內(nèi)為圓桶剖面形狀。制造了一對(duì)這樣的彩色濾波器并且在交疊部分的凸起(凸起部分)、凹槽(凹陷部分)和平坦表面選擇11個(gè)點(diǎn)測(cè)量高度，并與交疊部分以外的其它彩色層進(jìn)行比較。
由圖1和表1可見(jiàn)，如果交疊寬度小于2微米，則彩色層交疊程度不夠并且在表面上形成了凹陷部分。因此比較好的是使彩色層的交疊寬度大于2微米從而避免在交疊部分表面形成凹陷部分(像素邊緣部分)。
如果在交疊彩色層交疊部分時(shí)形成遮光部件(黑色掩膜)，則交疊部分可以由遮光部件遮擋。當(dāng)交疊部分寬度超過(guò)遮光部件寬度時(shí)，彩色層溢入相鄰像素從而產(chǎn)生由混色引起的顯示缺陷。因此比較好的是使交疊部分的寬度小于遮光部件。在這種情況下，遮光部件可以形成在基片上，并且隨后形成彩色層從而使交疊部分位于遮光部件上。而且彩色層可以形成于基片上，隨后在交疊部分形成遮光部件。
當(dāng)遮光部件在使交疊部分交疊過(guò)程中形成時(shí)，交疊部分的最大高度等于彩色層厚度×2加上遮光部件的厚度。交疊部分高度增加會(huì)導(dǎo)致交疊部分內(nèi)的凸起部分變大。由于凸起部分的尾部要求較大，所以一部分與交疊部分不對(duì)應(yīng)的彩色層變成較大的凹陷部分，這導(dǎo)致元胞厚度在液晶顯示裝置形成過(guò)程中發(fā)生變化，從而使光學(xué)性能和顯示質(zhì)量有所變化。由于彩色層的材料與像素中心部分和像素邊緣部分的相同，所以單單減小對(duì)應(yīng)彩色層的交疊部分的厚度是不可能的，但是可以通過(guò)減少遮光部件的厚度來(lái)降低交疊部分的高度。通過(guò)遮光部件厚度依次變化為1.5微米、1.4微米、1.3微米、1.2微米、1.1微米、1.0微米和0.9微米時(shí)對(duì)液晶疇域和聚焦錐面進(jìn)行的評(píng)價(jià)表明，遮光部件厚度小于或等于1.0微米時(shí)提供了穩(wěn)定的顯示。通過(guò)元胞厚度依次變化為6微米、5微米和4微米時(shí)對(duì)液晶疇域和聚錐面進(jìn)行的評(píng)價(jià)表明，遮光部件厚度小于或等于0.5微米時(shí)提供了穩(wěn)定的顯示。因此比較好的是為了提供較高的響應(yīng)速度，在元胞厚度減小的液晶顯示裝置內(nèi)遮光部件的厚度為1微米或以下，或者0.5微米以下。
當(dāng)主烘干步驟前在彩色層上涂覆覆蓋材料并進(jìn)行預(yù)烘干時(shí)，覆蓋材料流向不平整的低位表面以緩解不平整度。此時(shí)，如果彩色層的交疊部分(像素邊緣部分)形成凸起部分時(shí)，該凸起部分起著堤岸的作用并且使覆蓋材料流向像素中心以使像素部分表面平整。由于與普通彩色濾波器基片不同，覆蓋材料沒(méi)有流入像素邊緣部分的凹陷部分從而影響表面平整度，所以本發(fā)明顯示出有效的平整能力從而提高了像素部分的表面平整度。
圖2和下列表2示出了形成于交疊部分上的交疊層厚度隨相鄰彩色層交疊寬度變化的測(cè)量結(jié)果。與圖1和表1一樣，相鄰彩色層(RG、GB和GR)的交疊寬度根據(jù)條狀彩色層(R、G和B)的像素寬度變化，彩色層在像素邊緣部分為圓形剖面形狀而在整個(gè)層內(nèi)為圓桶剖面形狀。制造了一對(duì)這樣的彩色濾波器并且在交疊部分的凸起(凸起部分)、凹槽(凹陷部分)和平坦表面選擇11個(gè)點(diǎn)測(cè)量高度，并與交疊部分以外的其它彩色層進(jìn)行比較。
由圖2和表2可見(jiàn)，如果相鄰彩色層的交疊寬度小于2微米，則彩色層交疊程度不夠并且在表面上形成了凹陷而交疊部分上的覆蓋層(像素邊緣部分)形成凸起部分。
由于沒(méi)有如上所述在像素邊緣部分的覆蓋層上形成凹陷部分，所以與普通彩色濾波器基片不同，元胞在象素邊緣部分的凹陷部分內(nèi)不會(huì)形成厚度差異，從而使液晶元胞的初始狀態(tài)產(chǎn)生差異。而且由于覆蓋材料沒(méi)有流入象素邊緣部分的凹陷部分從而影響表面平整度，所以它顯示出它的平整能力，因而可以明顯改善象素部分的表面平整度。
如上所述，對(duì)于改善和提高液晶顯示裝置的光學(xué)性能和顯示質(zhì)量來(lái)說(shuō)，彩色濾波器基片表面平整度的提高是非常關(guān)鍵的。為了進(jìn)一步提高平整度，一種方法是對(duì)彩色濾波器基片表面進(jìn)行拋光。由于彩色層的交疊部分在本發(fā)明的彩色濾波器基片中高度最高，所以通過(guò)對(duì)包括象素中心部分在內(nèi)的大部分象素部分進(jìn)行拋光就可以提高這部分的平整度而不改變厚度。在這種情況下，由于與普通濾波器基片不同，即使是象素邊緣部分形成的凹陷部分最低部分也無(wú)需拋光，所以彩色層本身的厚度不會(huì)變化并且避免了彩色濾波器基片色調(diào)和性能的變化。而且由于覆蓋層的表面在本發(fā)明彩色濾波器基片的彩色層交疊部分中高度最高，所以通過(guò)對(duì)包括象素中心部分在內(nèi)的大部分象素部分的表面進(jìn)行拋光就可以提高這部分的平整度而不改變厚度。而且在這種情況下，由于與普通濾波器基片不同，即使是象素邊緣部分形成的凹陷部分最低部分也無(wú)需拋光，所以彩色層本身的厚度不會(huì)變化并且避免了彩色濾波器基片色調(diào)和性能的變化。
比較好的是利用包含至少相應(yīng)顏色物質(zhì)和光敏樹(shù)脂的材料，通過(guò)光刻工藝形成包含兩種顏色以上的每一彩色層。在光刻過(guò)程中，象素的形成精度取決于光學(xué)掩膜的精度、光敏材料的顯影對(duì)比度和曝光裝置的精度，但是可以提供的精度為偏離設(shè)計(jì)值的±2微米。雖然彩色層可以利用印刷方法形成，但是在這種情況下，象素邊緣部分內(nèi)可能會(huì)有大約20-25微米的波紋，因此在遮光部件上難以精確形成寬度從2微米到遮光部件寬度不等的交疊部分。
本發(fā)明的彩色液晶顯示裝置采用本發(fā)明的彩色濾波器基片。通過(guò)使相鄰圓桶形狀彩色層的邊緣部分交疊以抬高象素邊緣部分并且通過(guò)調(diào)整交疊部分的寬度，可以消除彩色濾波器基片象素邊緣部分內(nèi)的凹陷部分。由于與普通彩色濾波器基片不同，象素邊緣部分的凹陷部分內(nèi)元胞厚度不會(huì)增加，并且即使施加液晶驅(qū)動(dòng)電壓時(shí)V-T曲線也不會(huì)產(chǎn)生差異，所以可以防止對(duì)比度和顯示質(zhì)量的變差。而且通過(guò)控制遮光部件上彩色層的交疊寬度，可以調(diào)整交疊部分拖尾區(qū)域的延伸范圍。因此可以控制施加液晶驅(qū)動(dòng)電壓時(shí)變?yōu)橐壕腹鈪^(qū)域的整個(gè)部分的平整度。而且彩色層上覆蓋層的形成使整個(gè)象素部分內(nèi)彩色濾波器基片的表面平整，有效地改善平整能力，并減少相鄰彩色層之間象素中心部分的高度差異。而且由于與普通濾波器基片不同，即使是在對(duì)彩色層和覆蓋層表面進(jìn)行拋光時(shí)象素邊緣部分形成的凹陷部分最低部分也無(wú)需拋光，所以包括象素中心部分在內(nèi)的大部分象素部分的平整度得以提高而性能沒(méi)有改變。
特別是元胞厚度的變化和表面均勻度在很大程度上影響著STN或型液晶的光學(xué)性能和顯示質(zhì)量，但是可以將相鄰彩色層水平差異調(diào)整到0.01微米以下并且使彩色濾波器基片內(nèi)覆蓋層的平整能力最強(qiáng)。因此本發(fā)明的彩色濾波器基片在液晶顯示區(qū)域內(nèi)提供了無(wú)凹陷部分的均勻表面，并且滿足了STN型液晶顯示裝置高速響應(yīng)的要求。
彩色濾波器基片可以例如按照下述步驟制造，但是遮光部件(黑色掩膜)的形成方式可以與圖16A-16I所示普通過(guò)程相同，這里不再贅述。在圖16A-16I中黑色掩膜的厚度為1000埃，但是在這種情況下比較好的是薄膜厚度為1微米或以下或者0.5微米或以下。而且在圖3A-3G中，與圖15和圖18所示普通基片功能相同的部分用相同的標(biāo)號(hào)和符號(hào)表示。
首先，如圖3A所示，第一彩色層R(紅色)15形成于有黑色掩膜3的透明基片1的整個(gè)表面，并且如圖3B所示，利用光掩膜曝光和顯影以提供與R象素對(duì)應(yīng)的彩色層17。
隨后如圖3C所示，第二彩色層G(綠色)18形成于透明基片1的整個(gè)表面，并且如圖3D所示，利用光掩膜曝光和顯影以提供與G象素對(duì)應(yīng)的彩色層19。此時(shí)，調(diào)整光掩膜的設(shè)計(jì)從而使G彩色層19的邊緣部分與黑色掩膜3上R彩色層17的邊緣部分交疊。
接著，如圖3E所示，第三彩色層B(藍(lán)色)20形成于透明基片1的整個(gè)表面，并且如圖3F所示，利用光掩膜曝光和顯影以提供與B象素對(duì)應(yīng)的彩色層21。此時(shí)，調(diào)整光掩膜的設(shè)計(jì)從而使B彩色層21的邊緣部分與黑色掩膜3上G彩色層19的邊緣部分和R彩色層17的邊緣部分兩者交疊。這樣，R彩色層17、G彩色層19和B彩色層21的相鄰邊緣部分互相交疊以提供凸起的交疊部分。
此后如圖3G所示，涂覆覆蓋層5以覆蓋彩色層17、19和21。這樣R彩色層17、G彩色層19和B彩色層21交疊部分上的覆蓋層5形成凸起部分。
此外，也可以利用印刷方法形成彩色濾波器基片的彩色層。在這種情況下，由于彩色層在基片上印刷成點(diǎn)狀，所以可以省略顯影和曝光的步驟。
實(shí)施例1圖4為實(shí)施例1的彩色液晶顯示裝置的剖面圖。
該彩色液晶顯示裝置包括彩色濾波器基片，其中對(duì)應(yīng)像素R、G和B的相鄰彩色層4互相交疊在遮光部件(黑色掩膜)3上。彩色層4的邊緣部分在交疊部分內(nèi)形成凸起部分，并且形成于其上的一部分覆蓋層從彩色層4的凸起部分流至像素中心部分以在液晶透光顯示區(qū)域b內(nèi)提供平整表面，凸起部分只形成于彩色層4的凸起部分。
該彩色濾波器基片的制造步驟如下。
首先在形成有厚度為0.12微米而寬度為20微米的黑色掩膜3的玻璃基片1上，利用初始膜厚為2微米的薄膜形成對(duì)應(yīng)像素R、G和B的彩色層4并且通過(guò)薄膜層疊方法形成1.5微米厚的烘干后薄膜，從而使交疊部分的寬度為2微米左右。剖面形狀如圖5所示，并且交疊部分的高度為1.2-1.25微米，每個(gè)像素之間最大的水平差異為0.1微米。
隨后利用自旋覆蓋方法將Nihon Gosei Gomu制造的丙烯酸覆蓋材料涂覆在彩色層4上以形成覆蓋層5。其剖面形狀如圖6所示，并且用觸診(palpation)度量計(jì)測(cè)得每個(gè)像素之間的最大水平差異為0.005微米，這提供了較好的表面平整度。
該彩色濾波器基片經(jīng)研磨角為260°、元胞厚度為6微米而液晶α值1.035的SVGA面板系統(tǒng)調(diào)制以制造彩色液晶顯示裝置。最終的彩色液晶顯示裝置的光學(xué)性能和顯示質(zhì)量經(jīng)過(guò)測(cè)量，其顯示質(zhì)量均勻，對(duì)比度為40∶1(1.3倍于普通裝置)，亮度為96cd/cm2(4.8％的面板透射率)。
實(shí)施例2實(shí)施例1的彩色濾波器基片經(jīng)研磨角為260°、元胞厚度為6微米而液晶α值為1.026的SVGA面板系統(tǒng)調(diào)制以制造彩色液晶顯示裝置。最終的彩色液晶顯示裝置的光學(xué)性能和顯示質(zhì)量經(jīng)過(guò)測(cè)量，其顯示質(zhì)量均勻，對(duì)比度為55∶1(1.4倍于普通裝置)，亮度為108cd/cm2(5.4％的面板透射率)。
實(shí)施例3實(shí)施例1的彩色濾波器基片經(jīng)研磨角為260°、元胞厚度為4.5微米而液晶α值為1.030的SVGA面板系統(tǒng)調(diào)制以制造彩色液晶顯示裝置。最終的彩色液晶顯示裝置的光學(xué)性能和顯示質(zhì)量經(jīng)過(guò)測(cè)量，其顯示質(zhì)量均勻，對(duì)比度為30∶1(1.5倍于普通裝置)，亮度為90cd/cm2(4.5％的面板透射率)，并且響應(yīng)速度為120毫秒。
實(shí)施例4實(shí)施例1的彩色濾波器基片經(jīng)研磨角為240°、元胞厚度為6.5微米而液晶角為1.035的SVGA面板系統(tǒng)調(diào)制以制造彩色液晶顯示裝置。由于240°扭轉(zhuǎn)對(duì)準(zhǔn)薄膜材料比260°扭轉(zhuǎn)對(duì)準(zhǔn)薄膜材料的傾角更低，所以顯示質(zhì)量受基片不平整度的影響更大。但是最終的彩色液晶顯示裝置的光學(xué)性能和顯示質(zhì)量經(jīng)過(guò)測(cè)量，其顯示質(zhì)量均勻，對(duì)比度為50∶1(1.25倍于普通裝置)，亮度為108cd/cm2(5.2％的面板透射率)。
實(shí)施例5按照與實(shí)施例1相同的方法制造了1024×768XGA彩色濾波器基片，該彩色濾波器基片經(jīng)研磨角為260°、元胞厚度為6微米而液晶α值為1.035的SVGA面板系統(tǒng)調(diào)制以制造彩色液晶顯示裝置。最終的彩色液晶顯示裝置的光學(xué)性能和顯示質(zhì)量經(jīng)過(guò)測(cè)量，其顯示質(zhì)量均勻，對(duì)比度為35∶1(1.4倍于普通裝置)，亮度為80cd/cm2(4.0％的面板透射率)。
實(shí)施例6實(shí)施例1的彩色濾波器基片經(jīng)研磨角為260°、元胞厚度為5.0微米而液晶α值為1.035的面板系統(tǒng)調(diào)制以制造彩色液晶顯示裝置。最終的彩色液晶顯示裝置的光學(xué)性能和顯示質(zhì)量經(jīng)過(guò)測(cè)量，其顯示質(zhì)量均勻，對(duì)比度為50∶1，亮度為90cd/cm2(4.5％的面板透射率)，并且響應(yīng)速度為100毫秒。因此作為STN彩色液晶顯示裝置，適用于筆記本個(gè)人電腦之類的多媒體(動(dòng)畫等)應(yīng)用。
實(shí)施例7在本實(shí)施例中，用JSR光敏熱定型覆蓋材料代替實(shí)施例1中的熱定型覆蓋材料涂覆形成覆蓋層以進(jìn)一步改善實(shí)施例1的彩色濾波器基片的表面平整度。
圖7A示出了該實(shí)施例彩色濾波器基片內(nèi)的彩色層的剖面。在這種情況下，像素部分的表面與實(shí)施例1一樣平整，但是彩色層交疊部分與像素部分之間的邊界呈銳角，并且平整部分向黑色掩膜一側(cè)(寬度為20微米的區(qū)域)延伸。因此可以通過(guò)使黑色掩膜變窄進(jìn)一步改善像素的孔徑比。
另一方面，涂覆熱定型覆蓋材料的實(shí)施例1彩色濾波器基片的剖面形狀圖7B所示相同。在這種情況下，黑色掩膜部分以外的像素部分(寬度為20微米的區(qū)域)是均勻而平整的，但是彩色層交疊部分與像素部分之間的邊界有拖尾。因此彩色濾波器基片提供了較好的顯示性能，但是當(dāng)試圖改善像素孔徑比時(shí)，液晶顯示區(qū)域與該拖尾區(qū)域交疊，從而導(dǎo)致性能的下降。
比較實(shí)例1圖20為比較實(shí)例1彩色液晶顯示裝置的剖面圖。
對(duì)應(yīng)該彩色液晶顯示裝置的像素R、G和B的相鄰彩色層4形成后留下空間。形成于其上的覆蓋層流入彩色層之間的間隙從而在像素邊緣部分內(nèi)提供凹陷部分。
該彩色濾波器基片的制造步驟如下。
首先在形成有黑色掩膜3的玻璃基片1上，利用實(shí)施例1中采用的材料，通過(guò)層疊方法形成對(duì)應(yīng)像素R、G和B的彩色層4。剖面形狀如圖21所示，并且每個(gè)像素之間最大的水平差異為0.1微米。
隨后將實(shí)施例1中采用的同一覆蓋材料涂覆在彩色層4上以形成覆蓋層5。其剖面形狀如圖22所示，并且用觸診(palpation)度量計(jì)測(cè)得每個(gè)像素之間的最大水平差異為0.05微米，這大于實(shí)施例1。
該彩色濾波器基片經(jīng)與實(shí)施例1相同的面板調(diào)制以制造彩色液晶顯示裝置。最終的彩色液晶顯示裝置的光學(xué)性能和顯示質(zhì)量經(jīng)過(guò)測(cè)量，其對(duì)比度為30∶1，較實(shí)施例1的液晶顯示裝置差。這是因?yàn)閳D20所示像素邊緣部分內(nèi)c1部分的肩部拖尾在局部范圍內(nèi)增加了元胞厚度，從而在像素中心部分處于Voff狀態(tài)時(shí)因?yàn)閂-T特性差異引起光泄漏。而且經(jīng)過(guò)評(píng)估，G顏色在中性彩色顯示中是均勻的綠色。這是因?yàn)閳D20中G像素與B像素之間(c-c1之間)的水平差異為0.05微米，這減小了G像素的元胞厚度。
比較實(shí)例2圖23為比較實(shí)例2彩色液晶顯示裝置的剖面圖。
對(duì)應(yīng)該彩色液晶顯示裝置的像素R、G和B的相鄰彩色層4形成后留下空間，黑色掩膜23形成于其上。形成于其上的覆蓋層5流入彩色層4與黑色掩膜23之間的間隙從而在像素邊緣部分內(nèi)提供凹陷部分。
該彩色濾波器基片的制造步驟如下。
首先在玻璃基片1上，利用實(shí)施例1中采用的材料，通過(guò)薄膜層疊方法形成對(duì)應(yīng)像素R、G和B的彩色層4。相鄰彩色層4的間隙對(duì)應(yīng)于黑色掩膜23的設(shè)計(jì)值，在該比較實(shí)施例中為25微米。隨后利用薄膜層疊方法形成薄膜形狀的黑色掩膜23，或者利用印刷或自旋涂覆方法形成墨水形狀的黑色掩膜23。剖面形狀如圖24所示，并且每個(gè)像素之間最大的水平差異為0.1微米。
隨后利用實(shí)施例1中采用的同一覆蓋材料在彩色層4和黑色掩膜23上形成覆蓋層5。其剖面形狀如圖25所示，并且用觸診(palpation)度量計(jì)測(cè)得每個(gè)像素之間的最大水平差異為0.03微米，這大于實(shí)施例1。
該彩色濾波器基片經(jīng)與實(shí)施例1相同的面板調(diào)制以制造彩色液晶顯示裝置。最終的彩色液晶顯示裝置的光學(xué)性能和顯示質(zhì)量經(jīng)過(guò)測(cè)量，其對(duì)比度為30∶1，較實(shí)施例1的液晶顯示裝置差。這是因?yàn)閳D23所示像素邊緣部分內(nèi)c1部分的肩部拖尾在局部范圍內(nèi)增加了元胞厚度，從而在像素中心部分處于Voff狀態(tài)時(shí)因?yàn)閂-T特性差異引起光泄漏。而且經(jīng)過(guò)對(duì)它顯示質(zhì)量的評(píng)估，G顏色在中性彩色顯示中是非均勻的綠色。這是因?yàn)閳D23中G像素與B像素之間(c-c1之間)的水平差異為0.03微米，這減小了G像素的元胞厚度。
比較實(shí)例3比較實(shí)例1的彩色濾波器基片經(jīng)與實(shí)施例2相同的面板調(diào)制以制造彩色液晶顯示裝置。最終的彩色液晶顯示裝置的光學(xué)性能和顯示質(zhì)量經(jīng)過(guò)測(cè)量，其對(duì)比度為40∶1，較實(shí)施例2的液晶顯示裝置差，這是因?yàn)橄袼剡吘壊糠謨?nèi)光泄漏引起的。而且顯示質(zhì)量經(jīng)過(guò)評(píng)估，與比較實(shí)例1相比，每個(gè)像素之間的水平差異更大，這導(dǎo)致的嚴(yán)重不均勻性使得其特別是在中性顏色顯示中無(wú)法適用。而且采用比較實(shí)例2的彩色濾波器基片制造的彩色液晶顯示裝置也是同樣的結(jié)果。
比較實(shí)例4比較實(shí)例1的彩色濾波器基片經(jīng)與實(shí)施例3相同的面板調(diào)制以制造彩色液晶顯示裝置。最終的彩色液晶顯示裝置的光學(xué)性能和顯示質(zhì)量經(jīng)過(guò)測(cè)量，其對(duì)比度為25∶1，較實(shí)施例1的液晶顯示裝置差，這是因?yàn)橄袼剡吘壊糠謨?nèi)光泄漏引起的。而且顯示質(zhì)量經(jīng)過(guò)評(píng)估，與比較實(shí)例1相比，每個(gè)像素之間的水平差異更大，這導(dǎo)致的嚴(yán)重不均勻性使得其特別是在中性顏色顯示中無(wú)法適用。而且采用比較實(shí)例2的彩色濾波器基片制造的彩色液晶顯示裝置也是同樣的結(jié)果。
比較實(shí)例5比較實(shí)例1的彩色濾波器基片經(jīng)與實(shí)施例4相同的面板調(diào)制以制造彩色液晶顯示裝置。最終的彩色液晶顯示裝置的光學(xué)性能和顯示質(zhì)量經(jīng)過(guò)測(cè)量，其對(duì)比度為25∶1，較實(shí)施例4的液晶顯示裝置差，這是因?yàn)橄袼剡吘壊糠謨?nèi)光泄漏引起的。而且，由于在中性顏色顯示中的不均勻性它的顯示質(zhì)量較差。
按照下述程序?qū)ι鲜鰧?shí)施例4和比較實(shí)例5的液晶顯示裝置進(jìn)行評(píng)估。
圖8A，8B，9A，9B，10A和10B分別為液晶顯示裝置、形成中的覆蓋層和邊緣部分的彩色濾波器基片光泄漏示意圖。在圖中，A和B分別代表實(shí)施例4和比較實(shí)例5的情形。在圖10A和10B中，粗線包圍的部分是觀察到光泄漏的部分，而虛線包圍的部分為顏色更淡的部分。而且圖10A的部分4R，4G和4B分別對(duì)應(yīng)圖8A的4R，4G和4B，而圖10B的部分5R，5G和5B分別對(duì)應(yīng)圖8B的5R，5G和5B。
由于在實(shí)施例4的液晶顯示裝置中，像素點(diǎn)的中心部分與邊緣部分之間覆蓋層的水平差異更小并且邊緣部分與中心部分之間的元胞間隙差異更小，所以如圖10A所示，在彩色濾波器基片的邊緣部分沒(méi)有觀察到光泄漏。
另一方面，如圖8A和9B所示，由于在比較實(shí)例5的液晶顯示裝置中，像素點(diǎn)的中心部分與邊緣部分之間覆蓋層的水平差異更大并且邊緣部分與中心部分之間的元胞間隙差異為0.05-0.08微米，所以如圖10B所示在彩色濾波器基片的邊緣部分觀察到光泄漏。
而且圖11A和11B分別示出了在實(shí)施例4和比較實(shí)例5的覆蓋層形成過(guò)程中密封部分附近測(cè)得的剖面形狀(薄膜表面高度)結(jié)果。此外，彩色層4a形成于密封部分和黑色掩膜部分的黑色掩膜3上從而如圖12所示減小實(shí)施例4和比較實(shí)例5中有效顯示區(qū)域與密封部分之間的水平差異。
由圖11A和11B可見(jiàn)，實(shí)施例4彩色濾波器基片中密封部分與有效顯示區(qū)域之間的水平差異小于比較實(shí)例5。該水平差異導(dǎo)致模塊形成過(guò)程中密封部分附近出現(xiàn)顏色不均勻。與比較實(shí)例5比較，在實(shí)施例4中密封部分附近的顏色非均勻性可以得到大大的抑制。
原因如下。
如圖8A所示，在實(shí)施例4中有效顯示區(qū)域內(nèi)彩色濾波器基片的彩色層是凹陷的，并且當(dāng)在其上面涂覆覆蓋材料時(shí)，不會(huì)流入不需要部分。因此，如圖11A所示，密封部分與有效顯示區(qū)域之間的水平差異不會(huì)很大。
另一方面，如圖8B所示，在比較實(shí)例5中彩色濾波器基片的彩色層是凸起的，并且當(dāng)在其上面涂覆覆蓋材料時(shí)，它將流入沒(méi)有形成彩色層的凹陷部分從而提高薄膜壓縮的比例。因此，如圖11B所示，密封部分與有效顯示區(qū)域之間的水平差異很大。
圖13A和13B分別示出了實(shí)施例4和比較實(shí)例5的液晶顯示裝置內(nèi)元胞間隙分布。此外如圖13C所示，對(duì)每個(gè)元胞測(cè)量了35點(diǎn)。
由圖13A，13B和13C可見(jiàn)，與比較實(shí)例5相比，實(shí)施例4的液晶顯示裝置具有較小變化的元胞間隙。這是因?yàn)榕c比較實(shí)例5相比，實(shí)施例4中的彩色濾波器基片彩色層是交疊的從而在覆蓋層形成過(guò)程中改善了表面平整度。
而且圖14示出了實(shí)施例4和比較實(shí)例5的液晶顯示裝置對(duì)比度性能評(píng)價(jià)結(jié)果。此外，評(píng)價(jià)是對(duì)每個(gè)液晶顯示裝置的30組進(jìn)行的。
由圖14可見(jiàn)，實(shí)施例4液晶顯示裝置的平均對(duì)比度是比較實(shí)例5的1.5倍。而且由于實(shí)施例4彩色濾波器基片的表面比比較實(shí)例5的更為平整，所以對(duì)比度變化只是比較實(shí)例5的一半。
如上詳述，按照本發(fā)明，在不影響性能的前提下可以改善彩色濾波器基片的表面平整度和均勻性。本發(fā)明的彩色濾波器基片提供了光學(xué)性能出眾(例如高對(duì)比度、高亮度，高響應(yīng)速度)并且顯示質(zhì)量出色的彩色液晶顯示裝置。由于彩色濾波器基片的制造只是改變了普通制造工藝中的光學(xué)掩膜，所以不會(huì)增加制造成本或需要額外投資新設(shè)備，因此對(duì)成品率沒(méi)有影響。
本發(fā)明的范圍和精神實(shí)質(zhì)由后面所附權(quán)利要求限定。
權(quán)利要求
1.一種彩色濾波器基片，其特征在于包括基片和包含至少兩種顏色的彩色層，其中所述彩色層的相鄰邊緣部分互相交疊，交疊部分的高度大于或等于所述彩色層其它部分的高度。
2.如權(quán)利要求1所述的彩色濾波器基片，其特征在于交疊部分的寬度大于或等于2微米。
3.如權(quán)利要求1所述的彩色濾波器基片，其特征在于進(jìn)一步包括遮光部件。
4.如權(quán)利要求3所述的彩色濾波器基片，其特征在于所述遮光部件的厚度小于或等于1微米。
5.如權(quán)利要求3所述的彩色濾波器基片，其特征在于所述遮光部件的厚度小于或等于0.5微米。
6.如權(quán)利要求1所述的彩色濾波器基片，其特征在于進(jìn)一步包括覆蓋所述彩色層的平整層，其中所述平整層的整個(gè)表面或者所述平整層交疊部分以外的表面是平坦的。
7.如權(quán)利要求6所述的彩色濾波器基片，其特征在于通過(guò)對(duì)交疊部分和/或形成于交疊部分上的所述平整層部分進(jìn)行拋光使彩色層的整個(gè)表面和平整層平整。
8.如權(quán)利要求1所述的彩色濾波器基片，其特征在于所述彩色層包含彩色材料和光敏樹(shù)脂，并且重復(fù)采用光刻方法形成。
9.一種彩色液晶顯示裝置，其特征在于包括權(quán)利要求1所述的彩色濾波器基片、背面基片和液晶層。
10.如權(quán)利要求9所述的彩色濾波器基片，其特征在于所述液晶層包含STN型液晶，其中液晶分子的扭轉(zhuǎn)角在180°-360°之間。
11.一種彩色液晶顯示裝置，其特征在于包括如權(quán)利要求3所述的彩色濾波器基片、背面基片和液晶層。
12.如權(quán)利要求11所述的液晶顯示裝置，其特征在于所述液晶層包含STN型液晶，其中液晶分子的扭轉(zhuǎn)角在180°-360°之間。
13.一種彩色液晶顯示裝置，其特征在于包括如權(quán)利要求6所述的彩色濾波器基片、背面基片和液晶層。
14.如權(quán)利要求13所述的液晶顯示裝置，其特征在于所述液晶層包含STN型液晶，其中液晶分子的扭轉(zhuǎn)角在180°-360°之間。
全文摘要
本發(fā)明提供一種彩色濾波器基片,它包括基片和包含至少兩種顏色的彩色層,其中彩色層的相鄰邊緣部分互相交疊,交疊部分的高度大于或等于彩色層其它部分的高度。
文檔編號(hào)G02B5/20GK1188898SQ9810369
公開(kāi)日1998年7月29日 申請(qǐng)日期1998年1月21日 優(yōu)先權(quán)日1997年1月21日
發(fā)明者小倉(cāng)優(yōu)美, 吉村和也 申請(qǐng)人:夏普株式會(huì)社