本發明涉及光學防偽，具體而言，涉及一種防偽元件。
背景技術：
1、防偽元件在抵御假冒偽劣商品的造假中發揮著重要作用，由于防偽元件具有獨特的視覺效果和易識別性，所以被廣泛應用于鈔票、信用卡、護照和有價證券等高安全產品以及其它高附加值產品中。
2、現有的防偽元件通過設置微結構能夠實現隨觀察角度改變而觀看到的連續性的動態特征。但是現有技術中的防偽元件包含的信息較多，這樣就需要增加微結構的尺寸以容納較多信息，微結構尺寸的增加使得防偽元件整體尺寸較大，難以實現小型化，同時影響防偽元件的隱蔽性。
3、也就是說，現有技術中的防偽元件存在小型化和隱蔽性難以同時兼顧的問題。
技術實現思路
1、本發明的主要目的在于提供一種防偽元件，以解決現有技術中的防偽元件存在小型化和隱蔽性難以同時兼顧的問題。
2、為了實現上述目的，本發明提供了一種防偽元件，包括：基材，基材的至少一側表面具有表面特征區域，表面特征區域被劃分為多個像素，每個像素均具有多個微反射面，多個微反射面呈陣列設置；其中，多個微反射面的法向單位矢量在x軸上的分量nx和多個微反射面的法向單位矢量在y軸上的分量ny中的至少一個呈規律分布。
3、進一步地，微反射面的形狀為四邊形或六邊形。
4、進一步地，微反射面的邊長大于等于5微米且小于等于20微米。
5、進一步地，不同像素中的多個微反射面的nx的分布規律相同。
6、進一步地，同一個像素中的多個微反射面的nx沿至少一個方向逐漸增大或逐漸減小。
7、進一步地，不同像素中的多個微反射面的ny不同。
8、進一步地，同一個像素中的多個微反射面的ny相同。
9、進一步地，各像素中均具有m*n個微反射面，m*n個微反射面位于x軸和y軸所在的表面上。
10、進一步地，至少一組沿x軸排列的微反射面的nx沿x軸方向逐漸增大，和/或至少一組沿y軸排列的微反射面的nx沿y軸的反方向逐漸增大。
11、進一步地，nx值大于等于-0.5且小于等于0.5。
12、進一步地，ny值大于等于-0.5且小于等于0.5。
13、進一步地，防偽元件還包括鋁鍍層，鋁鍍層設置在微反射面的表面上。
14、進一步地，防偽元件還包括干涉共振層，干涉共振層設置在微反射面的表面上，干涉共振層至少包括疊置的第一金屬層、介質層和第二金屬層的至少三層結構。
15、進一步地，防偽元件還包括次級微結構，次級微結構設置在微反射面的表面上。
16、應用本發明的技術方案，防偽元件包括基材，基材的至少一側表面具有表面特征區域，表面特征區域被劃分為多個像素，每個像素均具有多個微反射面，多個微反射面呈陣列設置；其中，多個微反射面的法向單位矢量在x軸上的分量nx和多個微反射面的法向單位矢量在y軸上的分量ny中的至少一個呈規律分布。
17、表面特征區域被劃分為多個像素，每個像素均具有多個微反射面，多個微反射面呈陣列設置，通過合理規劃微反射面的布置方式，有利于保證本申請的表面特征區域能夠形成隨觀察角度改變而外觀可變的動感特征。微反射面的法向單位矢量在x軸上的分量nx和微反射面的法向單位矢量在y軸上的分量ny中的至少一個呈規律分布，由于nx和ny兩個分量可以確定微反射面的俯仰角，因此通過規劃各微反射面的nx呈規律分布或者規劃各微反射面的ny呈規律分布，這樣的分布能夠用較少的信息描述較大面積內的像素形貌，有利于壓縮像素的尺寸，同時可在制版時實時計算像素形貌，保證了防偽元件的小型化，有利于防偽元件應用在較小尺寸的產品中，同時增加了防偽元件的隱蔽性。
1.一種防偽元件，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的防偽元件，其特征在于，所述微反射面(11)的形狀為四邊形或六邊形。
3.根據權利要求1所述的防偽元件，其特征在于，所述微反射面(11)的邊長大于等于5微米且小于等于20微米。
4.根據權利要求1所述的防偽元件，其特征在于，不同所述像素(10)中的多個所述微反射面(11)的nx的分布規律相同。
5.根據權利要求1所述的防偽元件，其特征在于，同一個像素(10)中的多個所述微反射面(11)的nx沿至少一個方向逐漸增大或逐漸減小。
6.根據權利要求1所述的防偽元件，其特征在于，不同所述像素(10)中的多個所述微反射面(11)的ny不同。
7.根據權利要求1所述的防偽元件，其特征在于，同一個像素(10)中的多個所述微反射面(11)的ny相同。
8.根據權利要求1所述的防偽元件，其特征在于，各所述像素(10)中均具有m*n個所述微反射面(11)，m*n個所述微反射面(11)位于所述x軸和所述y軸所在的表面上。
9.根據權利要求1所述的防偽元件，其特征在于，至少一組沿所述x軸排列的多個所述微反射面(11)的nx沿所述x軸方向逐漸增大，和/或至少一組沿所述y軸排列的多個所述微反射面(11)的nx沿所述y軸的反方向逐漸增大。
10.根據權利要求1至9中任一項中所述的防偽元件，其特征在于，所述nx值大于等于-0.5且小于等于0.5。
11.根據權利要求1至9中任一項中所述的防偽元件，其特征在于，所述ny值大于等于-0.5且小于等于0.5。
12.根據權利要求1所述的防偽元件，其特征在于，所述防偽元件還包括鋁鍍層，所述鋁鍍層設置在所述微反射面(11)的表面上。
13.根據權利要求1所述的防偽元件，其特征在于，所述防偽元件還包括干涉共振層，所述干涉共振層設置在所述微反射面(11)的表面上，所述干涉共振層至少包括疊置的第一金屬層、介質層和第二金屬層的至少三層結構。
14.根據權利要求1所述的防偽元件，其特征在于，所述防偽元件還包括次級微結構，所述次級微結構設置在所述微反射面(11)的表面上。