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本發(fā)明屬于光刻物鏡成像，具體涉及一種大數(shù)值孔徑光刻機投影物鏡像方矢量衍射場快速計算方法。、光刻機是集成電路制造的核心裝備，投影光刻機在集成電路制造過程中發(fā)揮著非常重要的作用。光刻過程中，光刻機投影物鏡需要將掩模圖形高保真度的成像到硅片上，因此，光刻物鏡的成像質(zhì)量在很大程度上決定著光刻的質(zhì)量...

本發(fā)明涉及顯示器件制造，具體為液晶顯示屏智能制造系統(tǒng)及方法。、隨著移動通信終端向高屏占比、超薄化及柔性化方向演進，液晶顯示模組的制造工藝面臨著極高的物理精度挑戰(zhàn)。在現(xiàn)代電子制造產(chǎn)業(yè)中，顯示屏組件內(nèi)部的電路連接密度呈指數(shù)級增長，電極間距已縮減至微米級別，這對生產(chǎn)設(shè)備的穩(wěn)定性與環(huán)境適應(yīng)能力提出...

本申請中實施例涉及半導(dǎo)體制造，具體涉及一種掩膜圖案的生成方法、掩膜、半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制造方法。、在半導(dǎo)體制造過程中，可以利用光刻工藝將集成電路設(shè)計圖案從掩膜轉(zhuǎn)移至半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)表面，為集成電路各元器件的制造提供依據(jù)。具體的，光刻工藝過程通常包括涂覆、曝光、顯影等工藝步驟。首先，將光刻膠涂覆于半導(dǎo)...

本技術(shù)涉及全邊框眼鏡，具體是一種穩(wěn)定性高的全邊框眼鏡。、眼鏡是由鏡片、鏡架和鏡腿組合起來的，用來改善視力、保護眼睛或作裝飾用途的用品。眼鏡可矯正多種視力問題，包括近視、遠視、散光、老花、斜視或者弱視等。、其中，在兩個鏡腿之間的距離小于兩個耳朵之間的距離時，鏡腿需要繼續(xù)向外翻轉(zhuǎn)并進行一定程度...

本技術(shù)涉及半導(dǎo)體，特別是涉及一種集成光刻設(shè)備排液殼體結(jié)構(gòu)。、現(xiàn)有半導(dǎo)體制造設(shè)備中，tel?i-line機臺排液殼體普遍采用溢出式排液結(jié)構(gòu)。請參閱圖，現(xiàn)有技術(shù)結(jié)構(gòu)僅當(dāng)廢液積存至固定液位高度時，液體才可通過外溢方式排出。由于光阻廢液在排出過程中接觸空氣導(dǎo)致溶劑揮發(fā)，造成光阻晶體在排液口內(nèi)壁聚集...

本技術(shù)屬于防護管，具體為一種海底光纜防破損用防護管。、海底光纜防破損所用的防護管，主要是為了保護光纜在復(fù)雜的海底環(huán)境中免受各種潛在風(fēng)險的損害；防護管作為物理屏障，可以有效阻擋外界物體對海底光纜的直接撞擊和摩擦，如過往的船只、海底的礁石等可能對光纜造成損傷的因素；保護管能夠抵御這些外力，減少...

本發(fā)明提出了一種太赫茲可調(diào)諧的偏振轉(zhuǎn)換器及其設(shè)計方法，涉及太赫茲器件及數(shù)值計算領(lǐng)域。、太赫茲波一般是指.-thz頻率范圍內(nèi)的電磁波，對應(yīng)的波長為.-mm，是從毫米波向紅外光過渡的電磁波譜區(qū)域。太赫茲波具有良好的穿透性、低能性和寬帶性，在通信傳感、生物醫(yī)學(xué)、安全檢查、無損檢測和國防安全等領(lǐng)域...

本發(fā)明涉及鏡頭，尤其涉及一種定焦鏡頭。、科技的進步及g（第五代移動通訊）的發(fā)展，各行各業(yè)對鏡頭在各方面表現(xiàn)提出了更高的要求，由于小光圈不能滿足低照度的拍攝環(huán)境需求，大光圈已經(jīng)成為攝影鏡頭產(chǎn)品的趨勢。目前市面上已經(jīng)出現(xiàn)了一系列的大光圈產(chǎn)品，但能達到光圈數(shù)f=.的鏡頭少之又少，且同時滿足大視場...

本發(fā)明涉及使用了二色性色素的液晶調(diào)光元件。、作為以往的窗簾、百葉窗的替代物，提出了多種根據(jù)從外部施加的電壓程度來可變地控制透光量、可視性的電調(diào)光元件，液晶調(diào)光元件也是其中之一。、尤其是，與使用玻璃基板的液晶調(diào)光元件相比，使用塑料基板（或者也稱為薄膜基板）得到的液晶調(diào)光元件因其輕量性、形狀加...

本申請涉及顯示，尤其涉及一種光學(xué)膜組件、顯示模組及顯示器。、隨著液晶顯示技術(shù)的飛速發(fā)展，液晶顯示屏從一開始的小尺寸手機屏幕的應(yīng)用到現(xiàn)在的大尺寸電腦、電視屏幕的廣泛應(yīng)用，已經(jīng)成為顯示領(lǐng)域的主流產(chǎn)品。因此，對顯示器的影像質(zhì)量和環(huán)境適應(yīng)性有了更高的要求。、目前大多數(shù)車企的車載顯示屏多個顯示屏相拼...

本發(fā)明涉及醫(yī)療器械，尤其涉及一種醫(yī)學(xué)影像診斷觀察裝置。、醫(yī)學(xué)影像診斷觀察裝置是輔助臨床醫(yī)生進行疾病診斷的核心工具，通過整合多模態(tài)醫(yī)學(xué)影像數(shù)據(jù)（如ct、mri、x光、超聲等）實現(xiàn)精準(zhǔn)分析，該裝置依托先進的圖像處理算法與人工智能技術(shù)，可對影像進行增強、去噪、三維重建及動態(tài)可視化，提升微小病灶的...

本發(fā)明涉及ar眼鏡，具體地說，涉及一種非遺活態(tài)傳承用ar輔助體驗裝置。、隨著增強現(xiàn)實ar技術(shù)的快速發(fā)展，ar眼鏡作為一種新型的智能穿戴設(shè)備，已經(jīng)在娛樂、教育、醫(yī)療等多個領(lǐng)域展現(xiàn)出巨大的應(yīng)用潛力，然而，在實際使用過程中，用戶普遍面臨一些挑戰(zhàn)，尤其是在佩戴舒適性和便捷性方面。、物質(zhì)文化遺產(chǎn)是承...

本發(fā)明涉及芯片制造，尤其是一種套刻測量系統(tǒng)以及測量方法。、隨著芯片制造技術(shù)的發(fā)展，出現(xiàn)了包括多層光刻工藝在內(nèi)的先進制程，該工藝要求不同光刻層之間必須實現(xiàn)高精度的圖形對準(zhǔn)，以確保器件性能與良品率。為保障對準(zhǔn)精度，需在光刻過程中逐層進行套刻測量。、相關(guān)技術(shù)中，通常采用光學(xué)檢測系統(tǒng)進行套刻測量。...

本發(fā)明涉及一種顯示裝置，且特別涉及一種防窺顯示裝置及車用防窺顯示裝置。、顯示裝置為了能讓多個觀看者一起觀看，通常具有廣視角的顯示效果。然而，在某些情況或場合，需要對可視方向進行限制。例如，近年車用防窺屏幕的需求逐漸增加，主要是期望在副駕乘客享受影音設(shè)施的同時，屏蔽駕駛者的視角（即主駕駛防窺...

本申請涉及機器視覺，尤其涉及安裝座、前端組件及成像設(shè)備。、隨著視覺技術(shù)的日趨成熟，其應(yīng)用越來越廣泛。在采用視覺技術(shù)進行檢測時，通常使用成像設(shè)備。成像設(shè)備是機器視覺系統(tǒng)的核心部件，相當(dāng)于機器視覺的“眼睛”。成像設(shè)備負責(zé)采集待檢產(chǎn)品的圖像并傳送給成像設(shè)備系統(tǒng)中的控制器，供其進行圖像處理。、現(xiàn)有...

本發(fā)明涉及納米壓印，具體為一種面向集成電路制造的自適應(yīng)調(diào)平與對準(zhǔn)系統(tǒng)及其工作方法。、納米壓印技術(shù)是一種高分辨率、低成本的微納制造技術(shù)，廣泛應(yīng)用于微光學(xué)器件、柔性電子、半導(dǎo)體封裝及新型顯示等領(lǐng)域，隨著器件特征尺寸不斷減小及圖形區(qū)域逐漸擴大，對壓印系統(tǒng)的調(diào)平精度、對位精度以及過程穩(wěn)定性提出了更...

本發(fā)明涉及光學(xué)成像設(shè)備，具體涉及一種用于攝像機、相機等設(shè)備的光學(xué)鏡頭鏡筒結(jié)構(gòu)，特別是一種具備高精度定位、環(huán)境密封、快速拆裝及模塊化功能集成的鏡筒系統(tǒng)。、光學(xué)鏡頭是成像系統(tǒng)的核心部件，其鏡筒結(jié)構(gòu)負責(zé)固定、保護內(nèi)部鏡片組，并確保各光學(xué)元件相對于像面的位置精度。隨著攝影攝像、機器視覺等領(lǐng)域的發(fā)展...

本申請屬于全息材料，涉及一種光致聚合物型全息記錄介質(zhì)及其應(yīng)用。、用于全息記錄的光致聚合物材料主要包括光敏染料、引發(fā)劑、鏈轉(zhuǎn)移劑、記錄單體、成膜樹脂、增塑劑等組分，它是利用光照使單體聚合后與成膜樹脂形成折射率調(diào)制的位相型全息光柵來實現(xiàn)全息記錄。相干亮區(qū)單體聚合被消耗而濃度降低，而在相干暗區(qū)單...

本申請涉及光信號通信，具體而言，涉及一種光路結(jié)構(gòu)及電子設(shè)備。、目前，交換機等光通信設(shè)備的通信效率較高，需要使用高速光模塊實現(xiàn)高效光通信，當(dāng)光模塊單通道速率從g向g、g甚至更高速率發(fā)展，傳統(tǒng)的打線鍵合工藝在電氣性能上無法滿足需求，芯片倒裝焊接工藝成為實現(xiàn)高速電氣互連、高效熱管理和高密度三維集...

本發(fā)明屬于微納光學(xué)及微納增材制造領(lǐng)域，具體涉及一種光纖模式復(fù)用準(zhǔn)同色邊緣光抑制超分辨光刻系統(tǒng)。、雙光子激光直寫光刻技術(shù)因其能突破衍射極限、實現(xiàn)納米級三維結(jié)構(gòu)加工而備受關(guān)注。現(xiàn)有的雙光子激光直寫加工精度普遍在?nm以上，且大面積加工能力不足。類似于受激輻射損耗（sted）原理的邊緣光抑制直寫...